[發明專利]鹽以及含有該鹽的光致抗蝕劑組合物

無效

• 申請號: 201010189458.8
• 申請日: 2010-05-25
• 公開（公告）號: CN101898988A
• 公開（公告）日: 2010-12-01
• 發明（設計）人: 市川幸司;吉田勛
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: C07C381/12
• 分類號: C07C381/12;C07C309/17;C07C303/32;G03F7/039;G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 柳春琦

1.一種以式(a)表示的鹽：

其中Q¹和Q²各自獨立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，

X¹表示單鍵或-(CH₂)_k-，并且-(CH₂)_k-中的一個或多個-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且-(CH₂)_k-中的一個或多個氫原子可以被C1-C12脂族烴基取代，并且k表示1至18的整數，

X²表示單鍵，C1-C12二價脂族烴基，C3-C12二價脂環族烴基，或通過結合二價脂族烴基與二價脂環族烴基形成的C4-C12二價基團，并且所述脂族烴基中的一個或多個-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且所述脂族烴基和所述脂環族烴基中的一個或多個氫原子可以被氟原子，羥基，C3-C36脂環族烴基或C2-C4酰基取代，

Y¹表示C3-C36脂環族烴基，并且所述脂環族烴基中的一個或多個-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，并且所述脂環族烴基中的一個或多個氫原子可以被氟原子，C1-C12脂族烴基，C3-C12脂環族烴基或C2-C4酰基取代，條件是-X²-Y¹基團具有一個或多個氟原子，并且

Z⁺表示有機抗衡陽離子。

2.根據權利要求1所述的鹽，其中k是0至5的整數。

3.根據權利要求1所述的鹽，其中Y¹是可以具有一個或多個氟原子的金剛烷基，或可以具有一個或多個氟原子的環己基。

4.根據權利要求1所述的鹽，其中X¹是包含-CO-O-的基團。

5.根據權利要求1所述的鹽，其中所述以式(a)表示的鹽是以式(a-1-1)，(a-2-1)，(a-3-1)或(a-4-1)表示的鹽：

其中Z⁺，Q¹和Q²具有與權利要求1中定義相同的含義。

6.根據權利要求1所述的鹽，其中Z⁺是以式(IXz)表示的陽離子：

其中P^a，P^b和P^c各自獨立地表示C1-C30烷基或C3-C30脂環族烴基，并且所述烷基中的一個或多個氫原子可以被羥基，C1-C12烷氧基或C3-C12環烴基取代，并且所述脂環族烴基中的一個或多個氫原子可以被羥基，C1-C12烷基或C1-C12烷氧基取代。

7.根據權利要求1所述的鹽，其中Z⁺是以式(IXa)表示的陽離子：

其中P¹，P²和P³各自獨立地表示氫原子，羥基，C1-C12烷基或C1-C12烷氧基。

8.一種光致抗蝕劑組合物，其包含根據權利要求1所述的鹽以及樹脂，所述樹脂包含具有酸不穩定基團的結構單元，并且不溶或難溶于堿水溶液，但通過酸的作用變得可溶于堿水溶液。

9.根據權利要求8所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述光致抗蝕劑組合物還包含堿性化合物。

10.一種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括以下步驟(1)-(5)：

(1)將根據權利要求8或9所述的光致抗蝕劑組合物涂覆在襯底上的步驟，

(2)通過進行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，

(3)將所述光致抗蝕劑膜對輻射曝光的步驟，

(4)烘焙已曝光的光致抗蝕劑膜的步驟，和

(5)用堿性顯影劑使已烘焙的光致抗蝕劑膜顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。