[發明專利]一種相變材料拋光后清洗液有效
| 申請號: | 201010189161.1 | 申請日: | 2010-06-01 |
| 公開(公告)號: | CN102268332A | 公開(公告)日: | 2011-12-07 |
| 發明(設計)人: | 王良詠;宋志棠;劉波;劉衛麗;鐘旻;封松林 | 申請(專利權)人: | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號: | C11D1/86 | 分類號: | C11D1/86;C11D1/62;C11D1/72;C11D1/04;C11D3/04;C11D3/28 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 許亦琳;余明偉 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 相變 材料 拋光 清洗 | ||
1.一種相變材料拋光后清洗液,包括氧化劑、表面活性劑、金屬防腐抑制劑、酸性介質和水性介質。
2.如權利要求1所述相變材料拋光后清洗液,其特征在于,以清洗液總重量為基準計,各組分的重量百分比為:
氧化劑????????????????0.01-10wt%
表面活性劑????????????0.01-4wt%
金屬防腐抑制劑????????0.0001-20wt%
酸性介質??????????????0.2-30wt%
水性介質??????????????余量。
3.如權利要求2所述相變材料拋光后清洗液,其特征在于,所述氧化劑的重量百分比為1-10wt%。
4.如權利要求2所述相變材料拋光后清洗液,其特征在于,所述表面活性劑的重量百分比為0.05-2wt%。
5.如權利要求2所述相變材料拋光后清洗液,其特征在于,所述金屬防腐抑制劑的重量百分比為0.001-2wt%。
6.如權利要求2所述相變材料拋光后清洗液,其特征在于,所述酸性介質的重量百分比為1-25wt%。
7.如權利要求1-6任一所述相變材料拋光后清洗液,其特征在于,所述的氧化劑選自鐵氰化鉀、雙氧水和過硫酸銨;所述的表面活性劑選自脂肪醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯和十六烷基三甲基溴化銨;所述的金屬防腐抑制劑選自苯丙三唑、吡唑及咪唑;所述的酸性介質選自硝酸、磷酸、硫酸、鹽酸、氫氟酸、檸檬酸及酒石酸;所述水性介質為去離子水。
8.如權利要求1-7任一所述相變材料拋光后清洗液用于硫系化合物相變材料的拋光后清洗的用途。
9.如權利要求8所述的用途,其特征在于,所述的硫系化合物相變材料符合化學通式:GexSbyTe(1-x-y),其中0≤x≤0.5,0≤y≤0.5,且x、y不同時為0。
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