[發明專利]背光模塊發光均勻化的結構及其方法

無效

• 申請號: 201010188945.2
• 申請日: 2010-05-18
• 公開（公告）號: CN101865382A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: 張俊彬;溫明晃;倪展璋;洪聰永;蔡宗霖
• 申請（專利權）人: 蘇州向隆塑膠有限公司
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;G02F1/13357;F21V8/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 胡美強

1.一種背光模塊發光均勻化的結構，包括有：至少一光源；一導光板；所述的導光板具有一入光面；所述光源設于該入光面；其特征在于：該導光板設置復數光學微結構單元，所述光學微結構單元則由復數次光學微結構單元組構而成，該光學微結構單元在所述導光板的分布密度是在X軸與Y軸方向隨著距離該光源愈長而愈密地變化，且該次光學微結構單元在該光學微結構單元的分布也在X軸與Y軸方向隨著距離該光源愈長而愈密地變化。

2.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：部分所述光學微結構單元相互連接。

3.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：部分所述次光學微結構單元相互連接。

4.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述次光學微結構單元進一步在Z軸方向隨著距離該光源愈長而改變，由該光學微結構單元與次光學微結構單元的組成形成三維方向的變化。

5.根據權利要求4所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述次光學微結構單元是由復數在Z軸方向高出該導光板表面的突出部組成，該突出部高出導光板表面的長度與距離所述光源的距離成正比。

6.根據權利要求4所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述次光學微結構單元是由復數在Z軸方向低于該導光板表面的凹孔組成，該凹孔低于導光板表面的深度與距離所述光源的距離成正比。

7.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為正方形。

8.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為長方形。

9.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為棱形。

10.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為圓形。

11.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為橢圓形。

12.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為三角形。

13.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元的輪廓為波浪形。

14.根據權利要求第1至6項任一項所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元包含有復數種幾何形狀之輪廓，以規則或不規則形態排列組合。

15.根據權利要求14所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述相互連接的幾何形狀輪廓光學微結構單元是重迭地連接。

16.根據權利要求14所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述幾何形狀輪廓光學微結構單元突出所述導光板表面的高度相同或不相同。

17.根據權利要求14所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述幾何形狀輪廓光學微結構單元凹入所述導光板表面的深度相同或不相同。

18.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述導光板是由復數較小面積之導光板并接組成。

19.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述次光學微結構單元在每一光學微結構單元上的分布形態是相同于該光學微結構單元在該導光板上的分布形態。

20.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元設在該導光板的出光面。

21.根據權利要求1所述的背光模塊發光均勻化的結構，其特征在于：所述光學微結構單元設在該導光板相對于出光面的另一面。