[發(fā)明專利]一種去除微納結(jié)構(gòu)中溶劑的方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010188490.4
• 申請(qǐng)日: 2010-05-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101850945A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-10-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉剛;熊瑛;周杰;田揚(yáng)超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
• 主分類號(hào): B81C1/00
• 分類號(hào): B81C1/00;B82B3/00
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251
• 代理人: 賈玉忠

1.一種去除微納結(jié)構(gòu)中溶劑的方法，其特征在于步驟如下：

(1)在基片上制作微納結(jié)構(gòu)，利用旋涂工藝在基片上旋涂光刻膠，然后采用光刻工藝在基片材料上得到所需高度的光刻膠結(jié)構(gòu)，也可利用刻蝕工藝將光刻膠結(jié)構(gòu)再轉(zhuǎn)移到基片上，獲得所需高度的基片材料微納結(jié)構(gòu)；

(2)將完成漂洗的樣品從溶劑中取出，樣品上有微納結(jié)構(gòu)的面朝上，然后將基片放在樣品上，使得基片材料上的微納結(jié)構(gòu)蓋住樣品上的微納結(jié)構(gòu)；或相反將基片有微納結(jié)構(gòu)的面朝上，然后將樣品放在基片，使得基片材料上的微納結(jié)構(gòu)蓋住樣品上的微納結(jié)構(gòu)；

(3)待溶劑揮發(fā)完后，將基片移開(kāi)，完成輔助去除溶劑工藝，獲得所需的微納結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種去除微納結(jié)構(gòu)中溶劑的方法，其特征在于：所述基片材料上的微納結(jié)構(gòu)為具有周期性的光柵結(jié)構(gòu)，周期從500納米到20微米，且為凸結(jié)構(gòu)，高度從100納米到10微米，面積要能完全將樣品上微納結(jié)構(gòu)覆蓋。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種去除微納結(jié)構(gòu)中溶劑的方法，其特征在于：所述基片或光刻膠要能與溶劑浸潤(rùn)，接觸角要小于90°。