[發明專利]一種基于tracepro軟件的非規范復合拋物面聚光器的建模方法有效
| 申請號： | 201010188157.3 | 申請日： | 2010-06-01 |
| 公開（公告）號： | CN101840067A | 公開（公告）日： | 2010-09-22 |
| 發明（設計）人： | 隋成華;汪飛;葉必卿;魏高堯;石文淵 | 申請（專利權）人： | 浙江工業大學 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 杭州天正專利事務所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;王利強 |
| 地址： | 310014 *** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 tracepro 軟件 規范 復合 拋物面 聚光器 建模 方法 | ||
1.一種基于tracepro軟件的非規范復合拋物面聚光器的建模方法，其特征在于：所述建模方法包括如下步驟：
1)首先確定了聚光角θmax的最大聚光角θmax。
2)確定復合拋物面聚光器的出射口半徑a，CPC的長度l和焦距f，CPC焦距滿足方程(1)：
f＝a(1+sinθmax)????????(1)；
3)由tracepro軟件求出入射口半徑r，最大聚光角θmax和入射口半徑r滿足方程組(2)：
4)在tracepro軟件中建立CPC模型，所述CPC模型的表達式為(3)：
其中，x，y分別為直角坐標系中的橫坐標和縱坐標，并進行光學仿真，優化函數為如下三個方程：
光斑照度和最大聚光角滿足顯性方程(4)：
其中，φv為光源光通量，Lv為接收面光斑照度，H為CPC與接收面的距離，光斑照度隨著最大聚光角的增大而減小；
光斑均勻性η和CPC入射口半徑r為隱性函數，滿足方程(5)：
η＝f(r)????????(5)；
光斑均勻性η隨著CPC入射口半徑r的增大而增大；
聚光比C與最大聚光角θmax滿足方程(6)：
C＝1/sinθmax?????(6)，
聚光比C隨著最大聚光角θmax的增大而減小；
通過優化函數控制改變最大聚光角θmax和CPC入射口半徑r，直到光斑照度、光斑均勻性η或聚光比C達到優化目標值。
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