[發(fā)明專利]具有其中配置有活性成分的凹槽的片劑及其制備方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010187366.6
• 申請(qǐng)日: 2010-03-12
• 公開（公告）號(hào): CN101849923A
• 公開（公告）日: 2010-10-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C-M·詹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 伊諾維斯塔公司
• 主分類號(hào): A61K9/44
• 分類號(hào): A61K9/44
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 陳昕

1.一種片劑，其包含：

成分，選自活性藥用成分、藥物和原料藥；和

賦形劑；

其中：

所述片劑具有一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽；并且

所述成分全部置于所述一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的至少一個(gè)之中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的片劑，其中所述片劑具有多于一個(gè)的凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求2的片劑，其中所述片劑只具有兩個(gè)凹槽，且這兩個(gè)凹槽位于片劑的相對(duì)側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3的片劑，其中所述成分僅全部置于兩個(gè)凹槽中的一個(gè)內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的片劑，其中當(dāng)測(cè)量至底部時(shí)，所述成分全部置于其內(nèi)的凹槽具有的深度范圍為0.1mm以上至3.0mm以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的片劑，其中所述凹槽的深度范圍為0.5mm以上至2.5mm以下。

7.根據(jù)權(quán)利要求6的片劑，其中所述凹槽的深度范圍為1.0mm以上至2.0mm以下。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的片劑，其中當(dāng)測(cè)量其最大跨距時(shí)，所述成分全部置于其內(nèi)的凹槽的開口具有的尺寸范圍為0.5mm以上至5.0mm以下。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的片劑，其中所述凹槽開口的尺寸范圍為1.0mm以上至4.0mm以下。

10.根據(jù)權(quán)利要求9的片劑，其中所述凹槽開口的尺寸范圍為1.2mm以上至3.0mm以下。

11.根據(jù)權(quán)利要求1的片劑，其中全部置于所述片劑的一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的至少一個(gè)之中的成分的量的范圍為0.001mg以上至20mg以下。

12.根據(jù)權(quán)利要求11的片劑，其中所述成分的量的范圍為0.005mg以上至10mg以下。

13.根據(jù)權(quán)利要求12的片劑，其中所述成分的量的范圍為0.01mg以上至5mg以下。

14.一種制備片劑的方法，其包括以下步驟：

制備具有一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的片劑；和

將包含選自活性藥用成分、藥物和原料藥的成分的分散體配置于所述片劑的一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的至少一個(gè)之中。

15.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中在制備步驟中形成的片劑具有多于一個(gè)的凹槽。

16.根據(jù)權(quán)利要求15的方法，其中在制備步驟中形成的片劑只具有兩個(gè)凹槽，且這兩個(gè)凹槽位于片劑的相對(duì)側(cè)。

17.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中在配置步驟中，所述配置于片劑的一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的至少一個(gè)之中的分散體中含有的成分的量的范圍為0.001mg以上至20mg以下。

18.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中在配置步驟中，所述配置于片劑的一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的至少一個(gè)之中的會(huì)散體中含有的成分的量的范圍為0.005mg以上至10mg以下。

19.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中在配置步驟中，所述配置于片劑的一個(gè)凹槽或多個(gè)凹槽的至少一個(gè)之中的分散體中含有的成分的量的范圍為0.01mg以上至5mg以下。