[發(fā)明專(zhuān)利]一種雙銀鍍膜玻璃及其制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010186930.2
• 申請(qǐng)日: 2010-05-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101830643A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 季亞林;申忠東;劉勇;黃威龍;樊義平
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中航三鑫股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C03C17/36
• 分類(lèi)號(hào): C03C17/36
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 44248
• 代理人: 胡吉科

1.一種雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：其包括玻璃基板以及設(shè)置在該玻璃基板上的多層鍍膜，所述的多層鍍膜包括依次設(shè)置的第一復(fù)合電介質(zhì)層，第一銀層，第一保護(hù)層，第二復(fù)合電介質(zhì)層，第二銀層，第二保護(hù)層以及第三復(fù)合電介質(zhì)層，所述的第一復(fù)合電介質(zhì)層設(shè)置在該玻璃基板上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：所述的第一復(fù)合電介質(zhì)層為兩層復(fù)合結(jié)構(gòu)，該兩層復(fù)合結(jié)構(gòu)的材料由玻璃基板向外依次分別是：Si₃N₄/ZnO，或Si₃N₄/SnO₂，或Si₃N₄/ZnSnOx，或ZnSnOx/ZnO，或ZnSnOx/TiO_x，或TiO_x/ZnO，或者TiO_x/ZnSnOx，所述的第一復(fù)合電介質(zhì)層的膜層總厚度為20～65納米，其中較遠(yuǎn)離玻璃基板的氧化物膜層的厚度大于4納米。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：所述的第一銀層以及第二銀層的材料為Ag，膜層厚度為6～16納米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：所述的第一保護(hù)層以及第二保護(hù)層為NiCr、Ni、Nb或者NiCrV合金，其膜層厚度為0.2～3納米。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：所述的第二復(fù)合電介質(zhì)層為多層復(fù)合結(jié)構(gòu)，其包括兩種或者兩種以上的以下的介電式金屬材料：Si₃N₄，ZnSnO_x，TiO_x，ZnO，NbOx，NiCr，或NiCrO_x，其膜層總厚度為60～140納米。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：所述的第二復(fù)合電介質(zhì)層為五層復(fù)合結(jié)構(gòu)，該五層復(fù)合結(jié)構(gòu)的材料由玻璃基板向外依次分別是：ZnO/SnO₂/NiCr/SnO₂/ZnO，或ZnO/ZnSnOx/NbOx/ZnSnOx/ZnO，ZnO/Si₃N₄/NiCr/Si₃N₄/ZnO，或ZnO/ZnSnOx/NiCr/Si₃N₄/ZnO，或ZnO/Si₃N₄/NiCr/ZnSnOx/ZnO，或ZnO/ZnSnOx/NiCr/ZnSnOx/ZnO，或ZnO/NbOx/NiCr/Si₃N₄/ZnO，或ZnO/Si₃N₄/NiCr/NbOx/ZnO，或者ZnO/NbOx/NiCr/NbOx/ZnO。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：所述的第三復(fù)合電介質(zhì)層為兩層復(fù)合結(jié)構(gòu)，該兩層復(fù)合結(jié)構(gòu)的材料由玻璃基板向外依次分別是：ZnO/Si₃N₄，或SnO₂/Si₃N₄，或ZnSnO_x/Si₃N₄，或ZnO/ZnSnO_x，或TiO_x/ZnSnO_x，或ZnO/TiOx，或者ZnSnO_x/TiO_x，其膜層總厚度為20～60納米，其中較遠(yuǎn)離玻璃基板的氧化物膜層的厚度大于4納米。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙銀鍍膜玻璃，其特征在于：在第一復(fù)合電介質(zhì)層和第一銀層之間設(shè)置第三保護(hù)層，在第二復(fù)合電介質(zhì)層和第二銀層之間設(shè)置第四保護(hù)層；在第三復(fù)合電介質(zhì)層上設(shè)置第五保護(hù)層，所述的第三保護(hù)層以及第四保護(hù)層為Ni、Nb、NiCr或NiCrV合金，其膜層厚度為0.2～3納米，所述的第五保護(hù)層為T(mén)iOx，其膜層厚度為0.5～5納米。