[發明專利]自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法有效
| 申請號： | 201010186438.5 | 申請日： | 2010-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN101867001A | 公開（公告）日： | 2010-10-20 |
| 發明（設計）人： | 袁根如;郝茂盛;陳誠 | 申請（專利權）人： | 上海藍光科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/20 | 分類號： | H01L33/20 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人： | 李儀萍 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 對準 工藝 制作 圖形 襯底 方法 | ||
1.一種自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
步驟一、在透明襯底上用光刻膠制作多個凸形圖形微結構；
步驟二、將附有所述凸形圖形微結構的透明襯底進行高溫處理，使所述凸形圖形微結構碳化成不透光的凸形圖形微結構掩膜；
步驟三、在附有所述凸形圖形微結構掩膜的透明襯底上涂覆一層光刻膠層，并進行軟烘；
步驟四、將透明襯底涂覆有所述光刻膠層的表面朝下，使光線透過透明襯底，利用所述凸形圖形微結構掩膜對所述光刻膠層進行曝光；
步驟五、對曝光后的光刻膠層顯影，得到光刻膠圖形；
步驟六、采用高溫堅膜，將凸形圖形微結構掩膜和顯影后的光刻膠圖形熔合成凸形圓包；
步驟七、利用所述凸形圓包作為掩膜，用干法刻蝕技術將其圖形結構轉移到透明襯底上，得到凸形圖形襯底。
2.根據權利要求1中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：所述透明襯底為藍寶石襯底。
3.根據權利要求1中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：所述凸形圖形微結構是圓柱或圓臺。
4.根據權利要求1或3中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：所述凸形圖形微結構的高度為0.5-1um，其橫截面的最大寬度為2-3um。
5.根據權利要求1中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：多個所述凸形圖形微結構周期性排列。
6.根據權利要求1或5中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：多個所述凸形圖形微結構間距為1-2um。
7.根據權利要求1中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：步驟二中，在N2氣氛中進行高溫處理，處理溫度為450-800℃，處理時間為10-50min。
8.根據權利要求1中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：步驟三中，所述光刻膠層的厚度為2.5-10um。
9.根據權利要求1中所述自對準工藝制作凸形圖形襯底的方法，其特征在于：步驟六中，采用的干法刻蝕技術為電感耦合等離子體蝕刻技術。
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