[發(fā)明專利]鎂合金制件表面電泳涂裝的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010185992.1 | 申請(qǐng)日： | 2010-05-28 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101831685A | 公開（公告）日： | 2010-09-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 楊華山;包曄峰;蔣永鋒 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 河海大學(xué)常州校區(qū) |
| 主分類號(hào)： | C25D13/20 | 分類號(hào)： | C25D13/20;C25D13/06;C25D11/30 |
| 代理公司： | 常州市天龍專利事務(wù)所有限公司 32105 | 代理人： | 夏海初 |
| 地址： | 213022 江蘇*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鎂合金 制件 表面 電泳 方法 | ||
1.一種鎂合金制件表面電泳涂裝的方法，其工藝步驟依次包括鎂合金制件表面預(yù)處理和表面電泳涂裝處理，其特征在于：
a、所述鎂合金制件表面預(yù)處理，是對(duì)經(jīng)清潔處理的鎂合金制件作微弧氧化陶瓷層處理；是在電解槽內(nèi)的硅酸鹽處理液中，以被處理鎂合金制件為陰極，以不銹鋼制件為陽(yáng)極，在所述陰、陽(yáng)極之間施加一定的電壓，使被處理鎂合金制件表面形成微弧氧化陶瓷層；
b、所述鎂合金制件表面電泳涂裝處理，是通過(guò)對(duì)鎂合金制件表面所形成的微弧氧化陶瓷層清洗后，在環(huán)氧陰極電泳漆中浸潤(rùn)和攪拌，而在鎂合金制件微弧氧化陶瓷層表面形成電泳漆層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂合金制件表面電泳涂裝的方法，其特征在于：所述微弧氧化硅酸鹽處理液的組分及各組分單位體積的重量含量是：Na2SiO31～10g/L，KF?5～30g/L，C3H8O3?10～35ml/L，NaOH?0～8g/L。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂合金制件表面電泳涂裝的方法，其特征在于，所述微弧氧化處理的工藝參數(shù)是：電流模式為脈沖直流，電流密度在1～3A/dm2范圍內(nèi)，頻率在50～172.45HZ范圍內(nèi)，處理時(shí)間在0～10min范圍內(nèi)，所述微弧氧化陶瓷層的厚度在1～15μm范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂合金制件表面電泳涂裝的方法，其特征在于，所述鎂合金制件表面微弧氧化陶瓷層的清洗，是超聲波清洗；清洗時(shí)間在5～10min范圍內(nèi)，在陰極電泳漆中浸潤(rùn)時(shí)間在0～30s范圍內(nèi)，被加工件攪拌時(shí)間在0～10s范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂合金制件表面電泳涂裝的方法，其特征在于，所述電泳漆層，是由HED環(huán)氧陰極電泳漆通過(guò)電泳形成；其電泳條件包括：電壓在100～200V范圍內(nèi)，PH值在5.5～6.5范圍內(nèi)，電泳處理溫度在20～35℃范圍內(nèi)，電泳時(shí)間在20～150s范圍內(nèi)，烘干溫度在160～180℃范圍內(nèi)，烘干時(shí)間在20～30min范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鎂合金制件表面電泳涂裝的方法，其特征在于，所述在鎂合金制件表面形成電泳漆層的厚度在5～25μm范圍內(nèi)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于河海大學(xué)常州校區(qū)，未經(jīng)河海大學(xué)常州校區(qū)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010185992.1/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
