[發(fā)明專利]發(fā)光二極管及其制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010185591.6 | 申請(qǐng)日: | 2010-05-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101901861A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-12-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 小島健介 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/20 | 分類號(hào): | H01L33/20 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 及其 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光二極管的制造方法,該方法包括以下步驟:
在第一基板上生長(zhǎng)由具有閃鋅礦晶體結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體構(gòu)成的、形成發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體層,所述第一基板由具有閃鋅礦晶體結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體構(gòu)成,并且具有相對(duì)于(001)面在[110]方向上傾斜的主表面;
將所述第一基板在所述半導(dǎo)體層側(cè)上結(jié)合第二基板;
去除所述第一基板,從而暴露出所述半導(dǎo)體層;
在所述半導(dǎo)體層的暴露面上以矩形平面形狀形成蝕刻掩模,使得長(zhǎng)邊在[110]或[-1-10]方向上延伸,而短邊在[-110]或[1-10]方向上延伸;以及
使用所述蝕刻掩模通過(guò)濕蝕刻來(lái)圖案化所述半導(dǎo)體層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管的制造方法,其中,使用所述蝕刻掩模通過(guò)濕蝕刻而被圖案化的所述半導(dǎo)體層在平行于所述蝕刻掩模的短邊的方向上具有倒梯形截面形狀,并且具有平行于所述蝕刻掩模的長(zhǎng)邊的兩個(gè)側(cè)面,所述兩個(gè)側(cè)面分別位于(1-11)面和(-111)面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)光二極管的制造方法,其中,形成所述第一基板的所述化合物半導(dǎo)體和形成所述半導(dǎo)體層的所述化合物半導(dǎo)體為第III-V族化合物半導(dǎo)體或第II-VI族化合物半導(dǎo)體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光二極管的制造方法,其中,形成所述半導(dǎo)體層的所述化合物半導(dǎo)體為AlGaInP半導(dǎo)體、GaAs半導(dǎo)體或ZnSe半導(dǎo)體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光二極管的制造方法,其中,形成所述半導(dǎo)體層的所述化合物半導(dǎo)體為磷系化合物半導(dǎo)體,并且其中,被冷卻至低于5℃的溫度的鹽酸用作用于所述半導(dǎo)體層的濕蝕刻的蝕刻劑。
6.一種發(fā)光二極管,包括:
半導(dǎo)體層,由具有閃鋅礦晶體結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體構(gòu)成,并形成發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其中,所述半導(dǎo)體層具有在一個(gè)方向上的梯形截面形狀、相對(duì)于(001)面在[110]方向上傾斜的上底側(cè)主表面、以及分別位于(1-11)面和(-111)面的兩個(gè)側(cè)面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光二極管,其中,形成所述半導(dǎo)體層的所述化合物半導(dǎo)體為第III-V族化合物半導(dǎo)體或第II-VI族化合物半導(dǎo)體。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光二極管,其中,形成所述半導(dǎo)體層的所述化合物半導(dǎo)體為AlGaInP半導(dǎo)體、GaAs半導(dǎo)體或ZnSe半導(dǎo)體。
9.一種發(fā)光二極管的制造方法,該方法包括以下步驟:
在基板上生長(zhǎng)由具有閃鋅礦晶體結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體構(gòu)成的、形成發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體層,所述基板由具有閃鋅礦晶體結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體構(gòu)成,并且具有相對(duì)于(001)面在[-110]方向上傾斜的主表面;
在所述半導(dǎo)體層上以矩形平面形狀形成蝕刻掩模,使得長(zhǎng)邊在[-110]或[1-10]方向上延伸,而短邊在[110]或[-1-10]方向上延伸;以及
使用所述蝕刻掩模通過(guò)濕蝕刻來(lái)圖案化所述半導(dǎo)體層。
10.一種發(fā)光二極管,包括:
半導(dǎo)體層,由具有閃鋅礦晶體結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體構(gòu)成,并形成發(fā)光二極管結(jié)構(gòu),其中,所述半導(dǎo)體層具有在一個(gè)方向上的梯形截面形狀、相對(duì)于(001)面在[-110]方向上傾斜的上底側(cè)主表面、以及分別位于(111)面和(-1-11)面的兩個(gè)側(cè)面。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件
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