[發明專利]有機發光裝置和制造該有機發光裝置的方法無效
| 申請號: | 201010185019.X | 申請日: | 2010-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN101894919A | 公開(公告)日: | 2010-11-24 |
| 發明(設計)人: | 徐祥準;南基賢 | 申請(專利權)人: | 三星移動顯示器株式會社 |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓明星;薛義丹 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 發光 裝置 制造 方法 | ||
1.一種有機發光裝置,所述有機發光裝置包括:
基底;
有機發光單元,設置在基底上,有機發光單元包括第一電極、第二電極以及設置在第一電極和第二電極之間的有機層;
阻礙層,設置在基底上,用于覆蓋有機發光單元,阻礙層包括第一SiO層和設置在第一SiO層上的第一SiOxNy層,其中,x在0.1至1的范圍內,y在0.1至1的范圍內。
2.根據權利要求1所述的有機發光裝置,其中,第一SiOxNy層的密度大于第一SiO層的密度。
3.根據權利要求1所述的有機發光裝置,其中,第一SiO層的厚度在450nm至600nm的范圍內。
4.根據權利要求1所述的有機發光裝置,其中,第一SiOxNy層的厚度在0.5nm至5nm的范圍內。
5.根據權利要求1所述的有機發光裝置,其中,阻礙層的厚度在1nm至1000nm的范圍內。
6.根據權利要求1所述的有機發光裝置,其中,阻礙層的厚度在300nm至500nm的范圍內。
7.根據權利要求1所述的有機發光裝置,其中,阻礙層還包括:
第二SiO層,設置在第一SiOxNy層上;
第二SiOxNy層,設置在第二SiO層上。
8.一種制造有機發光裝置的方法,所述方法包括如下步驟:
在基底上形成有機發光單元,有機發光單元包括第一電極、第二電極以及設置在第一電極和第二電極之間的有機層;
在基底上形成第一SiO層;
在第一SiO層上形成第一SiOxNy層,以形成阻礙層,其中,x在0.1至1的范圍內,y在0.1至1的范圍內。
9.根據權利要求8所述的方法,其中,SiO層通過熱沉積形成。
10.根據權利要求8所述的方法,其中,SiOxNy層使用N2等離子體處理來形成。
11.根據權利要求8所述的方法,所述方法還包括:
在第一SiOxNy層上形成第二SiO層;
在第二SiO層上形成第二SiOxNy層。
12.根據權利要求11所述的方法,其中:
在有機發光單元上直接設置第一SiO層;
在第一SiO層上直接設置第一SiOxNy層;
在第一SiOxNy層上直接設置第二SiO層;
在第二SiO層上直接設置第二SiOxNy層。
13.根據權利要求8所述的方法,其中,阻礙層完全覆蓋有機發光單元,有機發光單元直接設置在基底上。
14.一種有機發光裝置,所述有機發光裝置包括:
基底;
有機發光單元,設置在基底上;
阻礙層,設置在基底上,以防止濕氣接觸有機發光單元,阻礙層包括設置在有機發光單元上的第一SiO層和設置在第一SiO層上的第一SiOxNy層,
其中,x在0.1至1的范圍內,y在0.1至1的范圍內。
15.根據權利要求14所述的有機發光裝置,其中,阻礙層還包括:
第二SiO層,設置在第一SiOxNy層上;
第二SiOxNy層,設置在第二SiO層上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





