[發(fā)明專利]基底層、研磨墊及研磨方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010182439.2 | 申請日： | 2010-05-19 |
| 公開（公告）號： | CN102248494A | 公開（公告）日： | 2011-11-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王昭欽;莊志成 | 申請（專利權(quán)）人： | 智勝科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B24D3/00 | 分類號： | B24D3/00;B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人： | 劉芳 |
| 地址： | 中國臺灣*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 基底 研磨 方法 | ||
1.一種研磨墊，其特征在于，包括：
一研磨層；以及
一基底層，配置于所述研磨層下方，所述基底層包括：
一多孔性內(nèi)層，具有一上表面及一下表面；以及
至少一表層，其孔洞比不大于0.3％，且配置于所述多孔性內(nèi)層的
所述上表面及所述下表面的至少一個上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述表層為一非多孔性表層，且其孔洞比為0％。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨墊，其特征在于，所述多孔性內(nèi)層與所述非多孔性表層是由相同材料、一體成型所制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨墊，其特征在于，所述非多孔性表層的厚度大于5μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨墊，其特征在于，所述非多孔性表層的厚度為8μm～35μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的研磨墊，其特征在于，所述非多孔性表層的表面粗糙度小于15μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨墊，其特征在于，所述非多孔性表層的表面粗糙度為3μm～10μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的研磨墊，其特征在于，所述多孔性內(nèi)層中的孔洞的孔徑分布為10μm～400μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的研磨墊，其特征在于，所述多孔性內(nèi)層中的孔洞的平均孔徑為100μm～250μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其特征在于，所述基底層是由低密度聚乙烯、或低密度聚乙烯與乙烯醋酸乙烯酯的混合物所制成。
11.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的研磨墊，其特征在于，還包括一粘著層，配置于所述研磨層與所述基底層之間、或是所述基底層與一研磨機臺之間的至少一個。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的研磨墊，其特征在于，所述基底層與所述粘著層粘著后經(jīng)抗剪力維持時間測試，在對所述非多孔性表層施加一剪力時，所述基底層與所述粘著層間具有一第一維持時間，在對所述多孔性內(nèi)層施加所述剪力時，所述基底層與所述粘著層間具有一第二維持時間，所述第一維持時間較所述第二維持時間多至少20％。
13.根據(jù)權(quán)利要求2至5中任一項所述的研磨墊，其特征在于，所述非多孔性表層包括一經(jīng)等離子體處理的非多孔性表層。
14.一種基底層，用于襯墊一研磨墊的一研磨層，其特征在于，包括：
一多孔性內(nèi)層，具有一上表面及一下表面；以及
一表層，其孔洞比不大于0.3％，且配置于所述多孔性內(nèi)層的所述上表面及下表面的至少一個上。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基底層，其特征在于，所述表層為一非多孔性表層，且其孔洞比為0％。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基底層，其特征在于，所述多孔性內(nèi)層與所述非多孔性表層是由相同材料、一體成型所制成。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基底層，其特征在于，所述非多孔性表層的厚度大于5μm。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基底層，其特征在于，所述非多孔性表層的厚度為8μm～35μm。
19.根據(jù)權(quán)利要求15至18中任一項所述的基底層，其特征在于，所述非多孔性表層的表面粗糙度小于15μm。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的基底層，其特征在于，所述非多孔性表層的表面粗糙度為3μm～10μm。
21.根據(jù)權(quán)利要求15至18中任一項所述的基底層，其特征在于，所述多孔性內(nèi)層中的孔洞的孔徑分布為10μm～400μm。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的基底層，其特征在于，所述多孔性內(nèi)層中的孔洞的平均孔徑為100μm～250μm。
23.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基底層，其特征在于，所述基底層是由低密度聚乙烯、或是低密度聚乙烯與乙烯醋酸乙烯酯的混合物所制成。
24.根據(jù)權(quán)利要求15至18中任一項所述的基底層，其特征在于，所述非多孔性表層包括一經(jīng)等離子體處理的非多孔性表層。
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