[發(fā)明專利]半導(dǎo)體芯片的制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010180248.2 | 申請日: | 2010-05-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101887843A | 公開(公告)日: | 2010-11-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 市六信廣;橫田龍平 | 申請(專利權(quán))人: | 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段曉玲;艾尼瓦爾 |
| 地址: | 日本東京都千*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 芯片 制備 方法 | ||
1.半導(dǎo)體芯片的制備方法,該方法包括:
將保護(hù)膜形成片材結(jié)合到半導(dǎo)體晶片上以使得該保護(hù)膜與該半導(dǎo)體晶片的后表面接觸,該保護(hù)膜形成片材包括在一個(gè)表面上的具有可脫模性的基底膜和提供在具有可脫模性的基底膜的表面上的由熱固性樹脂組合物構(gòu)成的半導(dǎo)體芯片保護(hù)膜,
然后固化該保護(hù)膜,和然后
從所得到的固化的保護(hù)膜上剝落該基底膜。
2.權(quán)利要求1的半導(dǎo)體芯片的制備方法,其中該熱固性樹脂組合物包括:
(A)100質(zhì)量份的至少一種選自由苯氧基樹脂、聚酰亞胺樹脂和(甲基)丙烯酸類樹脂的樹脂,
(B)5~200質(zhì)量份的環(huán)氧樹脂,
(C)10~900質(zhì)量份的填料,和
(D)有效量的環(huán)氧樹脂固化催化劑。
3.權(quán)利要求1的半導(dǎo)體芯片的制備方法,其中該填料(C)包括10~100質(zhì)量份的涂覆有聚有機(jī)倍半硅氧烷樹脂的硅酮橡膠微粒。
4.權(quán)利要求1的半導(dǎo)體芯片的制備方法,其中該基底膜的一個(gè)表面具有的可脫模性是通過在該基底膜的表面上形成脫模劑的涂層而提供的。
5.權(quán)利要求4的半導(dǎo)體芯片的制備方法,其中該脫模劑是硅酮基脫模劑或醇酸基脫模劑。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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