[發明專利]加替沙星分子印跡聚合物吸附劑及其制備工藝

無效

• 申請號: 201010179712.6
• 申請日: 2010-05-24
• 公開（公告）號: CN101829550A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發明（設計）人: 樊靜;高燕哺;朱桂芬;金彩霞;蘇現伐;王建玲;鮑林林;王海波;謝志廣
• 申請（專利權）人: 河南師范大學
• 主分類號: B01J20/285
• 分類號: B01J20/285;B01J20/30
• 代理公司: 新鄉市平原專利有限責任公司 41107
• 代理人: 毋致善

1.一種加替沙星分子印跡聚合物吸附劑，其特征在于：它是由加替沙星、甲基丙烯酸、乙二醇二甲基丙烯酸酯和偶氮二異丁腈，經熱聚合反應生成多孔球形高分子聚合物，此多孔球形高分子聚合物的比表面積不小于90m²/g。

2.一種制備權利要求1所述的加替沙星分子印跡聚合物吸附劑的工藝，其特征在于：將加替沙星、甲基丙烯酸、乙二醇二甲基丙烯酸酯和偶氮二異丁腈置于乙腈或三氯甲烷的溶劑中在50-70℃下熱引發聚合物加替沙星分子印跡聚合物吸附劑，上述各成分的摩爾比：加替沙星、甲基丙烯酸∶乙二醇二甲基丙烯酸酯∶偶氮二異丁腈為1∶4～8∶ZO：0.2-1。