[發(fā)明專利]玻璃基板蝕刻液及其制備方法

有效

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• 申請日: 2010-05-20
• 公開（公告）號: CN101838111A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發(fā)明（設計）人: 馮衛(wèi)文
• 申請（專利權）人: 合肥茂豐電子科技有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 關暢

技術領域

本發(fā)明屬于平板顯示領域，特別是涉及一種玻璃基板蝕刻液及其制備方法。

背景技術

在平板顯示領域中，包括等液晶顯示(LCD)、觸摸屏(TP)、離子體顯示(PDP)及有機電致發(fā)光(OLED)等制備工藝過程中，由于玻璃基板生產工藝的限制，為了進一步減輕顯示器件的重量，生產廠家越來越多的采用將玻璃基板進行減薄的方法。

通常使用的減薄方法有兩種，一種是物理方法，即使用拋光粉進行拋光研磨，這種方法減薄時間長，精度不好控制，產品良率低；另一種方法為化學蝕刻法，這種方法減薄時間短，設備投入小，產品良率高，且減薄液的成分簡單成本低，逐漸成為了玻璃基板減薄的主流技術方法。

目前，大多生產廠家用化學方法進行減薄時所采用的減薄液，基本都以氫氟酸為主要成分，還有一些廠家再輔助加入其它強酸。當蝕刻液中存在氫氟酸時會存在以下問題：1、氫氟酸的毒性大、容易揮發(fā)，尤其是在配置時需要采用較高溫度和濃度，不僅生產過程中危險性高，而且會對環(huán)境造成巨大污染；2、蝕刻產生的副產物容易吸附在玻璃、設備和管道表面，造成產品表面處理效果差、管道阻塞等問題，影響到良品率；3、生產過程中蝕刻速率不穩(wěn)定，蝕刻液的利用率相對較低，由此還會造成廢液處理量大，處理成本也隨之增高。因而，亟待研制一種新型的平板顯示用玻璃基板蝕刻液。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是提供一種玻璃基板蝕刻液及其制備方法。

本發(fā)明提供的玻璃蝕刻液，是由氟化銨、強酸、水和氨基三乙酸組成。

上述平板玻璃蝕刻液中，所述氟化銨、強酸和氨基三乙酸占所述蝕刻液總重的百分比分別為：5-20％、20-60％和1-8％；余量為水。該蝕刻液具體可為下述蝕刻液a-蝕刻液e中的任意一種：

由5-20％重量百分比的氟化銨、20-50％重量百分比的硫酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和30-74％重量百分比的水組成的蝕刻液a；

由5-15％重量百分比的氟化銨、20-50％重量百分比的硫酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和30-74％重量百分比的水組成的蝕刻液b；

由5-10％重量百分比的氟化銨、20-50％重量百分比的硫酸、1-5％重量百分比的氨基三乙酸和39-74％重量百分比的水組成的蝕刻液c；

由5-20％重量百分比的氟化銨、20-40％重量百分比的硫酸、10-35％重量百分比的硝酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和24-59％重量百分比的水組成的蝕刻液d；

由5-15％重量百分比的氟化銨、25-35％重量百分比的硫酸、10-35％重量百分比的硝酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和24-59％重量百分比的水組成的蝕刻液e。

所述氟化銨的結構式為NH₄F。各種強酸均適用，優(yōu)選硫酸和/或硝酸以任意比例混合的混合物。所述強酸為硫酸和硝酸的混合物時，硫酸和硝酸的重量份數比為25-40∶10-35。

本發(fā)明提供的制備該玻璃蝕刻液的方法，是將氟化銨、強酸、水和氨基三乙酸在20～30℃混勻，得到所述玻璃蝕刻液。

另外，該玻璃蝕刻液在制備平板玻璃基板減薄用蝕刻液中的應用，也屬于本發(fā)明的保護范圍。

本發(fā)明提供的平板玻璃減薄用蝕刻液，采用氟化銨、強酸和水作為基本成分，并加入金屬鰲合劑氨基三乙酸(Nitrilotriacetic?acid，簡稱NTA)。由于氟化銨具有不易揮發(fā)、毒性小的特點；NTA的特點是能夠與蝕刻時產生的金屬離子形成螯合物，更加容易被水溶解且具有很強的生物可分解性，該蝕刻液是一種安全、穩(wěn)定、高效的蝕刻液，能夠很好的解決蝕刻過程中產生的難溶性副產物問題，同時也提高了蝕刻速率和蝕刻效果。該蝕刻液適用于TFT玻璃基板的減薄，以及液晶顯示(LCD)(具體包括扭曲向列型(TN)、超扭曲向列型(STN)和彩色超扭曲向列型(CSTN))、觸摸屏(TP)、等離子體(PDP)及有機電致發(fā)光(OLED)顯示用玻璃基板的減薄。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發(fā)明作進一步說明，但本發(fā)明并不限于以下實施例。下述實施例中所述方法如無特別說明，均為常規(guī)方法。

實施例1、

將如下重量百分比的各組分在20～30℃(室溫)攪拌均勻，得到本發(fā)明提供的平板玻璃減薄用蝕刻液：氟化銨5％、硫酸20％、NTA1％、純水74％。

對該平板玻璃減薄用蝕刻液的蝕刻性能按照下述方法進行測定：