[發(fā)明專利]太陽能電池及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010178151.8 | 申請日: | 2010-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN102244137A | 公開(公告)日: | 2011-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 榮延棟 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/052 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100026 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
1.一種太陽能電池制造方法,其特征在于,包括:
對太陽能電池基底進行氫處理,所述氫處理包括在含氫氣氛中于800攝氏度~1500攝氏度的溫度下處理太陽能電池基底。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述氫處理包括在含氫氣氛中于900攝氏度的溫度下處理太陽能電池基底。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,
所述對太陽能電池基底進行氫處理之前還包括:在所述太陽能電池基底中制造PN結(jié),并對所述太陽能電池基底進行刻蝕;
所述對太陽能電池基底進行氫處理之后還包括:在所述太陽能電池基底上沉積減反射膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述對太陽能電池基底進行氫處理包括:
將所述太陽能電池基底置于一個腔室中;
將所述腔室抽真空至第一壓力;
以特定流量向所述腔室通入含氫氣體,并使所述腔室保持第二壓力;
將所述太陽能電池基底加熱至800攝氏度~1500攝氏度并處理特定時間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述第一壓力為0.01Pa~0.5Pa。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述含氫氣體為氫氣或氫氣和氦氣的混合氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述混合氣體中氫氣所占的體積比為20%~40%。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述特定流量為2000sccm~8000sccm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述特定流量為5000sccm。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述第二壓力為10Pa~500Pa。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述第二壓力為200Pa。
12.根據(jù)權(quán)利要求4所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述特定時間為10秒~200秒。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的太陽能電池制造方法,其特征在于,所述特定時間為30秒。
14.一種太陽能電池,包括具有P型層和N型層的基底,所述基底的一側(cè)有背電極,所述基底的另一側(cè)有減反射膜,所述減反射膜上有穿過所述減反射膜并與所述基底接觸的前電極,其特征在于,所述太陽能電池在制造過程中經(jīng)歷過氫處理,所述氫處理包括在含氫氣氛中于800攝氏度~1500攝氏度的溫度下處理太陽能電池基底。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的太陽能電池,其特征在于,所述氫處理包括在含氫氣氛中于900攝氏度的溫度下處理太陽能電池基底。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





