[發(fā)明專利]用于化學(xué)蝕刻工件的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010176814.2
• 申請日: 2010-03-12
• 公開（公告）號: CN101840850A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: O·安塞爾;A·巴拉斯;P·本內(nèi)特;D·托塞爾
• 申請（專利權(quán)）人: SPP加工技術(shù)系統(tǒng)英國有限公司
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01J37/32
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 蔣旭榮

1.一種使用處理氣體對工件進(jìn)行化學(xué)蝕刻的裝置，該裝置包括：腔室，該腔室用于接收處理氣體并具有用于抽取排出氣體的泵送口；和在腔室中位于泵送口上游的工件支撐部，其特征在于，該腔室進(jìn)一步包括副腔，該副腔位于泵送口的上游及工件支撐部的下游，所述副腔包括窗口和臨近窗口的激發(fā)源，該激發(fā)源用于在排出氣體的樣品中產(chǎn)生等離子體，從而產(chǎn)生可以通過窗口被監(jiān)測的光發(fā)射。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述副腔包括延長部或終端，在延長部或終端中形成有所述窗口，所述激發(fā)源包括線圈或電容器，所述線圈或電容器圍繞著延長部或終端并離開其設(shè)置。

3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其中窗口大體上與泵送口相對。

4.如前述權(quán)利要求的任一項所述的裝置，其進(jìn)一步包括監(jiān)測器，所述監(jiān)測器用于監(jiān)測可通過窗口看到的光發(fā)射。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其進(jìn)一步包括控制器，所述控制器用于由監(jiān)測的光發(fā)射確定處理終點。

6.如前述權(quán)利要求的任一項所述的裝置，其進(jìn)一步包括提供離子化的處理氣體的源。