[發(fā)明專利]去除光掩模光刻膠的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010176627.4
• 申請日: 2010-05-19
• 公開（公告）號: CN102253608A
• 公開（公告）日: 2011-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金海濤;徐飛;吉保國;王夏
• 申請（專利權(quán)）人: 常州瑞擇微電子科技有限公司
• 主分類號: G03F7/32
• 分類號: G03F7/32;G03F7/30
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32231
• 代理人: 金輝

1.一種去除光掩模光刻膠的方法，包括：將光掩?；旁诠に嚽粌?nèi)；用光刻膠去除液噴淋到光掩?；希黄涮卣髟谟冢簩⒐庋谀；D(zhuǎn)；所述光刻膠去除液為臭氧溶于去離子水而得的臭氧去離子水；使前述的臭氧去離子水霧化并由一個噴嘴噴淋到光掩?；?，將光刻膠分解為二氧化碳和水，從而脫離光掩模表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：去除光刻膠的工藝反應(yīng)時間為：0.5～15min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：所述光刻膠去除液為臭氧與氮氣溶于去離子水而得的臭氧去離子水。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：臭氧與氮氣的比率為：100％∶0～10％∶90％；臭氧與氮氣的壓力為：0.3～3bar。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：由另一個噴嘴引入熱蒸汽噴淋到光掩?；希约铀俟饪棠z去除液對光刻膠的分解速度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：所述蒸汽的溫度為105～200℃。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：所述噴淋霧化的臭氧去離子水的噴嘴與噴淋熱蒸汽的噴嘴整合在工藝腔的一個工藝臂上，所噴淋出的臭氧去離子水霧狀氣柱與蒸汽氣柱交叉相遇在光掩?；砻?。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7之一所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：所述臭氧在去離子水中的濃度為：5～90ppm；所述臭氧去離子水的流速為：30～300ml/min。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：去除光刻膠后再用清洗液清洗光掩?；系臍埩纛w粒；所述清洗液為標準一號洗液、臭氧去離子水、熱的去離子水的混合液，由設(shè)置在工藝腔上的另一個工藝臂上的噴嘴噴淋到光掩?；?。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的去除光掩模光刻膠的方法，其特征在于：所述工藝腔為開放式工藝腔。