[發明專利]一種納米復合鈦鉻硅氮化物刀具涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201010176320.4
• 申請日: 2010-05-11
• 公開（公告）號: CN101831616A
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發明（設計）人: 王成勇;成曉玲;余東海;張鳳林;匡同春
• 申請（專利權）人: 廣東工業大學
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 林麗明

1.一種納米復合鈦鉻硅氮化物刀具涂層，其特征在于所述的涂層按原子百分比計配比如下：鈦30～60at.％，鉻6～36at.％，硅4～20at.％，氮30～50at.％；

所述鈦鉻硅氮化物刀具涂層的厚度為1～4微米。

2.一種權利要求1所述的納米復合鈦鉻硅氮化物刀具涂層的制備方法，其特征在于所述刀具涂層制備的步驟為：將經預處理后的未涂層刀具均勻固定在支架上，間距大于等于10mm，裝入物理氣相鍍膜機中，調節工件支架轉速為10～20rpm，抽至本底真空2.5～3.0×10^-3Pa，同時打開加熱器，升溫至300～500℃；打開Ar氣流量閥，調節真空室約為0.3～0.4Pa，基體加負偏電壓290～310V，進行輝光濺射清洗9～11min，濺射功率7kw；隨后開啟極離子槍，以Ti離子高能轟擊基體3～5分鐘以活化基體表面；然后降低基體偏電壓至200～260V，同時打開N₂氣流量閥，在流量200～300sccm、溫度400～500℃、工作壓力0.7～0.9Pa條件下，沉積TiN過渡層9～11min；根據通入反應氣體N₂，沉積鈦鉻硅氮化物刀具涂層，沉積時間保持在100～120min；完成鍍膜后，刀具隨爐降溫至170℃后取出常溫冷卻即可。