[發明專利]電磁波發生源判定裝置及方法

有效

• 申請號: 201010174689.1
• 申請日: 2010-04-28
• 公開（公告）號: CN101876675A
• 公開（公告）日: 2010-11-03
• 發明（設計）人: 谷博之;梶原正一
• 申請（專利權）人: 松下電器產業株式會社
• 主分類號: G01R29/08
• 分類號: G01R29/08
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖;胡燁

1.一種電磁波發生源判定裝置，判定從被測定物放射的電磁波的發生源，其特征在于，包括：

測定部，該測定部在與所述被測定物的主面垂直的方向上距離不同的第1測定點和第2測定點測定電磁場強度；

計算部，該計算部使用由所述測定部測定的電磁場強度的測定值，計算所述第1測定點和所述第2測定點之間的電磁場強度的衰減量；及

判定部，該判定部通過判定由所述計算部計算出的所述衰減量的值與所述發生源是電流源的情況下的所述衰減量的基準值、和所述發生源是磁流源的情況下的所述衰減量的基準值中的哪一個更接近，從而判定所述發生源是電流源和磁流源中的哪一個。

2.如權利要求1所述的電磁波發生源判定裝置，其特征在于，包括

推定部，該推定部在由所述判定部判定的結果為所述發生源是電流源的情況下，使用所述測定值確定電流值，并使用所述電流值推定任意點上的電場強度，另一方面，在所述發生源是磁流源的情況下，使用所述測定值確定磁流值，并使用所述磁流值推定任意點上的電磁場強度。

3.如權利要求1所述的電磁波發生源判定裝置，其特征在于，

所述測定部中，對與所述被測定物的主面平行且包含所述第1測定點的第1測定面、和與所述第1測定面平行且包含所述第2測定點的第2測定面進行掃描，測定各測定面中的電磁場分布。

4.如權利要求1所述的電磁波發生源判定裝置，其特征在于，

所述測定部中，在存在于所述被測定物的近場的所述第1測定點、和相比所述第1測定點離所述被測定物更遠的所述第2測定點上進行測定。

5.一種電磁波發生源判定方法，判定從被測定物放射的電磁波的發生源，其特征在于，包括：

測定步驟，該測定步驟在與所述被測定物的主面垂直的方向上距離不同的第1測定點和第2測定點測定電磁場強度；

計算步驟，該計算步驟使用由所述測定步驟測定的電磁場強度的測定值，計算所述第1測定點和所述第2測定點之間的電磁場強度的衰減量；及

判定步驟，該判定步驟通過判定由所述計算步驟計算出的所述衰減量的值與所述發生源是電流源的情況下的所述衰減量的基準值、和所述發生源是磁流源的情況下的所述衰減量的基準值中的哪一個更接近，從而判定所述發生源是電流源和磁流源中的哪一個。

6.如權利要求5所述的電磁波發生源判定方法，其特征在于，包括

推定步驟，該推定步驟在由所述判定步驟判定的結果為所述發生源是電流源的情況下，使用所述測定值確定電流值，并使用所述電流值推定任意點上的電磁場強度，另一方面，在所述發生源是磁流源的情況下，使用所述測定值確定磁流值，并使用所述磁流值推定任意點上的電磁場強度。

7.如權利要求5所述的電磁波發生源判定方法，其特征在于，

所述測定步驟中，對與所述被測定物的主面平行且包含所述第1測定點的第1測定面、和與所述第1測定面平行且包含所述第2測定點的第2測定面進行掃描，測定各測定面中的電磁場分布。

8.如權利要求5所述的電磁波發生源判定方法，其特征在于，

所述測定步驟中，在存在于所述被測定物的近場的所述第1測定點、和相比所述第1測定點離所述被測定物更遠的所述第2測定點上進行測定。