[發明專利]一種增強納米狹縫透射效率的微納結構無效
| 申請號： | 201010174265.5 | 申請日： | 2010-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN101858998A | 公開（公告）日： | 2010-10-13 |
| 發明（設計）人： | 趙華君;袁代蓉 | 申請（專利權）人： | 重慶文理學院 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 402160 *** | 國省代碼： | 重慶;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 增強 納米 狹縫 透射 效率 結構 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于增強納米狹縫透射效率的微納結構，其特征在于該結構由帶狹縫的金屬膜、介質隔層及周期金屬條結構組成，金屬膜厚度為225-275納米、介質隔層厚度為130-240納米、金屬條周期為665-685納米。
2.根據權利要求1所述的增強納米狹縫透射效率的微納結構，其特征在于該結構的金屬為銀，金屬膜厚度為250納米、狹縫寬度為50納米、介質隔層厚度為190納米、狹縫正上端金屬條寬550納米、金屬條周期為675納米、金屬條槽寬為200納米、金屬條厚度為90納米。
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