[發(fā)明專利]一種利用蠟下油生產(chǎn)潤滑油基礎(chǔ)油的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010171043.8 | 申請日: | 2010-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN102242001A | 公開(公告)日: | 2011-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王軼凡;王魯強(qiáng);郭慶洲 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油化工科學(xué)研究院 |
| 主分類號: | C10G67/02 | 分類號: | C10G67/02;C10G73/02;C10M177/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 王景朝;龐立志 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 蠟下油 生產(chǎn) 潤滑油 基礎(chǔ)油 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種生產(chǎn)潤滑油基礎(chǔ)油的方法。
背景技術(shù)
采用多步加氫制備潤滑油基礎(chǔ)油的方法在本領(lǐng)域中是熟知的。在這類方法中,第一步大多是以加氫脫硫、氮為目的,同時伴有芳烴的開環(huán)或加氫飽和過程。第二步主要是以降低產(chǎn)品傾點為目的異構(gòu)降凝過程過臨氫降凝過程。
CN?101074393A公開了一種制備潤滑油基礎(chǔ)油的方法,該方法包括脫蠟原料在加入助劑的情況下經(jīng)溶劑脫蠟后將脫蠟油和第二、三段脫蠟的蠟下油混合進(jìn)入加氫處理-后精制-常減壓蒸餾-異構(gòu)降凝-加氫補(bǔ)充精制過程。其中加氫處理段催化劑為工業(yè)上用于生產(chǎn)潤滑油基礎(chǔ)油的或加氫裂化催化劑,是載體為硅鋁的W-Ni、Mo-Ni、W-Mo-Ni催化劑。加氫處理過程的壓力12-20MPa,溫度為360-420℃,空速0.5-1.5h-1,氫油比800-2000v/v。加氫后精制過程的壓力12-20MPa,溫度為250-320℃,空速0.8-1.5h-1,氫油比200-1000v/v。蒸餾部分,切割出>300℃部分做基礎(chǔ)油料,<300℃部分做溶劑油。異構(gòu)降凝部分所使用的催化劑是以貴金屬作為加氫脫氫組分的雙功能催化劑,為載有貴金屬的ZAP、SAPO、ZSM和SSZ分子篩脫蠟催化劑。異構(gòu)降凝過程的壓力10-20MPa,溫度為300-420℃,空速0.5-1.5h-1,氫油比500-1600v/v。加氫補(bǔ)充精制為工業(yè)加氫精制催化劑,其飽和條件為壓力10-20MPa,溫度為220-300℃,空速0.8-1.5h-1,氫油比100-800v/v。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種新的生產(chǎn)潤滑油基礎(chǔ)油的方法,特別是利用蠟下油生產(chǎn)潤滑油基礎(chǔ)油的方法。
本發(fā)明提供一種利用蠟下油生產(chǎn)潤滑油基礎(chǔ)油的方法,包括:a)在一個催化脫蠟反應(yīng)單元和催化脫蠟反應(yīng)條件下,將蠟下油與脫蠟催化劑接觸,制備一種傾點降低了的蠟下油;b)在加氫精制反應(yīng)單元和加氫精制反應(yīng)條件下,將步驟a)得到的傾點降低了的蠟下油與加氫精制催化劑接觸,經(jīng)分離得到潤滑油基礎(chǔ)油,其中,所述蠟下油中的硫含量小于50μg/g,氮含量小于10μg/g。
與現(xiàn)有方法相比,本發(fā)明提供的方法潤滑油基礎(chǔ)油收率明顯提高。
附圖說明
圖1為本發(fā)明提供方法的一種利用蠟油生產(chǎn)高粘度指數(shù)潤滑油基礎(chǔ)油的流程示意圖,該流程包括催化脫蠟反應(yīng)單元和加氫精制反應(yīng)單元。
圖2為本發(fā)明提供方法的另外一種利用蠟油生產(chǎn)高粘度指數(shù)潤滑油基礎(chǔ)油的流程示意圖,該流程包括加氫處理反應(yīng)單元、催化脫蠟反應(yīng)單元和加氫精制反應(yīng)單元。
具體實施方式
按照本發(fā)明提供的方法,其中,所述蠟下油中的硫含量小于50μg/g,優(yōu)選小于20μg/g,進(jìn)一步優(yōu)選小于10μg/g,氮含量小于10μg/g,優(yōu)選小于5μg/g,進(jìn)一步優(yōu)選小于2μg/g。
所述的蠟下油包括溶劑脫蠟得到的蠟產(chǎn)品之外的全部烴產(chǎn)品。現(xiàn)有技術(shù)中,溶劑脫蠟可以是將經(jīng)常減壓蒸餾得到的減壓餾分油進(jìn)行的脫蠟,也可以是經(jīng)加氫處理后的減壓餾分油進(jìn)行的的脫蠟。當(dāng)所述溶劑脫蠟的原料為通過加氫處理后的原料油,由此得到的蠟下油的硫、氮含量能夠滿足前述的要求的,可以直接作為原料用于本發(fā)明;當(dāng)所述溶劑脫蠟的原料為常規(guī)的減壓餾分油或雖然經(jīng)過加氫處理,但產(chǎn)物中硫、氮含量不能滿足要求時,由此得到的蠟下油的硫、氮含量不能滿足前述的要求,可以采用任意一種現(xiàn)有的加氫處理方法對其進(jìn)行精制,以使其滿足要求。
在優(yōu)選的實施方式中,所述脫蠟催化劑含有具有中孔結(jié)構(gòu)的分子篩、耐熱無機(jī)氧化物基質(zhì)和加氫金屬組分,所述耐熱無機(jī)氧化物基質(zhì)包括一種由擬薄水鋁石經(jīng)焙燒得到的γ-氧化鋁,其中,所述擬薄水鋁石包括一種1.1≤n≤2.5的擬薄水鋁石P1,其中n=D(031)/D(120),所述D(031)表示擬薄水鋁石晶粒的XRD譜圖中031峰所代表的晶面的晶粒尺寸,D(120)表示擬薄水鋁石晶粒的XRD譜圖中120峰所代表的晶面的晶粒尺寸,所述031峰是指XRD譜圖中2θ為的峰,所述120峰是指XRD譜圖中2θ為的峰,D=Kλ/(Bcosθ),K為Scherrer常數(shù),λ為靶型材料的衍射波長,B為衍射峰的半峰寬,2θ為衍射峰的位置。優(yōu)選所述擬薄水鋁石P1的n滿足1.2≤n≤2.2。
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