[發(fā)明專利]粘接帶的擴(kuò)展方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010170598.0 | 申請日: | 2010-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN101887841A | 公開(公告)日: | 2010-11-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 中村勝 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社迪思科 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;H01L21/78;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 陳堅(jiān) |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 粘接帶 擴(kuò)展 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及使粘貼有晶片的粘接帶向環(huán)狀框架的半徑方向擴(kuò)展的粘接帶的擴(kuò)展方法。
背景技術(shù)
關(guān)于IC(Integrated?Circuit:集成電路)、LSI(Large-scale?Integration大規(guī)模集成電路)等多個(gè)器件被形成為格子狀的分割預(yù)定線所劃分而形成的晶片,通過切割裝置或激光加工裝置將所述晶片分割成一個(gè)個(gè)器件,分割后的器件被廣泛應(yīng)用于移動(dòng)電話、個(gè)人計(jì)算機(jī)等各種電子設(shè)備。
切割裝置是利用具有非常薄的切削刃的切削刀具沿分割預(yù)定線切削晶片從而將其分割成一個(gè)個(gè)器件的裝置,該切割裝置能夠?qū)⒕煽康胤指畛梢粋€(gè)個(gè)器件。
此外,激光加工裝置照射相對于晶片具有透射性的波長的激光束,從而沿著分割預(yù)定線在晶片的內(nèi)部形成變質(zhì)層,然后通過使支承有晶片的粘接帶擴(kuò)展來對晶片施加外力,使晶片沿著變質(zhì)層斷裂從而分割成一個(gè)個(gè)器件(例如,參照日本特開2004-349623號公報(bào))。
另一方面,近年來,移動(dòng)電話和個(gè)人計(jì)算機(jī)等電氣設(shè)備追求更加輕量化和小型化,需要更薄的器件。作為將晶片分割成更薄的器件的技術(shù),開發(fā)出了所謂預(yù)切割法的分割技術(shù),并且該技術(shù)正被實(shí)用化(例如,參照日本特開平11-40520號公報(bào))。
該預(yù)切割法是這樣的技術(shù):從半導(dǎo)體晶片的表面沿分割預(yù)定線形成預(yù)定深度(與器件的完成厚度相當(dāng)?shù)纳疃?的分割槽,然后對在表面形成有分割槽的半導(dǎo)體晶片的背面進(jìn)行磨削,使分割槽露出于該背面,從而將該半導(dǎo)體晶片分割成一個(gè)個(gè)器件,該預(yù)切割法能夠?qū)⑵骷暮穸燃庸ぶ?00μm以下。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2004-349623號公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開平11-40520號公報(bào)
但是,當(dāng)使用激光加工裝置在晶片的內(nèi)部沿分割預(yù)定線形成變質(zhì)層,并擴(kuò)展粘接帶從而將晶片沿變質(zhì)層分割成一個(gè)個(gè)器件時(shí),存在這樣的問題:擴(kuò)展后的粘接帶產(chǎn)生松弛,從而在搬送晶片時(shí)器件相互接觸而損傷。此外,在粘接帶的中央部下垂的狀態(tài)下,存在無法將經(jīng)粘接帶支承于環(huán)狀框架的晶片收納到盒中的問題。
在將被稱為DAF(Die?Attach?Film:芯片貼膜)的芯片接合用膜粘貼于通過預(yù)切割法而分割成了一個(gè)個(gè)器件的晶片的背面、進(jìn)而將DAF粘貼于粘接帶、并通過粘接帶的擴(kuò)展來與一個(gè)個(gè)器件對應(yīng)地分割DAF的情況下,也會(huì)產(chǎn)生上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于這樣的問題而完成的,其目的在于提供一種能夠擴(kuò)展粘貼有晶片的粘接帶從而使晶片沿變質(zhì)層斷裂的粘接帶的擴(kuò)展方法。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種能夠通過擴(kuò)展粘接帶來與一個(gè)個(gè)器件對應(yīng)地分割芯片貼膜的粘接帶的擴(kuò)展方法,其中所述芯片貼膜粘貼在通過預(yù)切割法而分割成了一個(gè)個(gè)器件的晶片的背面。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





