[發明專利]用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍機及濺鍍方法

無效

• 申請號: 201010170252.0
• 申請日: 2010-04-30
• 公開（公告）號: CN102234777A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 張一熙
• 申請（專利權）人: 亞洲太陽科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 任默聞

1.一種用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍機，所述的磁控濺鍍機包含：一具有濺鍍空間的腔體以及一設于所述的腔體的濺鍍空間內的基板與靶材，所述的靶材用以濺鍍所述的基板，其特征在于：在所述的靶材背面側設有至少一磁性元件，由所述的磁性元件的磁場作用，使所述的靶材被撞擊出來的濺鍍原子沉積于所述的基板表面上，而形成一高均勻度及高品質的鍍膜。

2.如權利要求1所述的用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍機，其特征在于，所述的磁性元件為永久磁鐵。

3.如權利要求1所述的用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍機，其特征在于，所述的磁性元件為導電線圈。

4.一種用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍方法，其特征在于，所述的方法包含：

提供一具有濺鍍空間的腔體；

令一基板設于所述的腔體的濺鍍空間內；

令一靶材設于所述的腔體的濺鍍空間內，并位在所述的基板的一側；

令至少一磁性元件設于所述的靶材的背面側，并位于所述的腔體的濺鍍空間內；

令所述的濺鍍空間內部呈真空狀態，并通入等離子體；以及

令所述的靶材的原子被濺出而沉積在所述的基板上以形成一鍍膜。

5.如權利要求4所述的用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍方法，其特征在于，所述的磁性元件為永久磁鐵。

6.如權利要求4所述的用于薄膜太陽能電池制造的磁控濺鍍方法，其特征在于，所述的磁性元件為導電線圈。