[發(fā)明專利]一種平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010169432.7
• 申請日: 2010-05-07
• 公開（公告）號: CN102236118A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹揚;李宏強;魏澤勇;武超;樊元成;余興;韓縉;張冶文;陳鴻
• 申請（專利權(quán)）人: 同濟大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;B32B15/04
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 吳林松

1.一種平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：其包括上表面金屬結(jié)構(gòu)層、介質(zhì)層和金屬底板層，從上至下依次相疊，上表面金屬結(jié)構(gòu)層的每一個金屬結(jié)構(gòu)單元與其下方的介質(zhì)和金屬底板構(gòu)成了一個光學微腔，與入射光形成磁諧振。

2.如權(quán)利要求1所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述上表面金屬結(jié)構(gòu)層由周期排列的金屬單元結(jié)構(gòu)組成。

3.如權(quán)利要求2所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述上表面金屬結(jié)構(gòu)層的每個周期單元由兩種或兩種以上金屬結(jié)構(gòu)組成，或者由同一種金屬結(jié)構(gòu)組成，金屬結(jié)構(gòu)之間具有相同或者不同的間距。

4.如權(quán)利要求3所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述金屬單元結(jié)構(gòu)為一維形式的金屬帶排成光柵結(jié)構(gòu)或者復(fù)式光柵結(jié)構(gòu)。

5.如權(quán)利要求3所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述金屬單元結(jié)構(gòu)為具有二維陣列形式的金屬方片、金屬圓片或者金屬同軸環(huán)周期結(jié)構(gòu)或者復(fù)式格子結(jié)構(gòu)。

6.如權(quán)利要求2所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述金屬單元周期結(jié)構(gòu)的周期數(shù)需大于10，周期長度等于工作波長的0.2倍到2倍。

7.如權(quán)利要求1所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述金屬底板上表面需經(jīng)過拋光處理，其表面粗糙度不應(yīng)大于工作波長的十分之一。

8.如權(quán)利要求1所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述介質(zhì)層為一層均勻的電介質(zhì)。

9.如權(quán)利要求8所述的平面結(jié)構(gòu)閃耀光柵，其特征在于：所述介質(zhì)層的厚度要求是光學亞波長厚度，比光波波長二分之一小。