[發明專利]濺鍍裝置

無效

• 申請號: 201010169387.5
• 申請日: 2010-05-13
• 公開（公告）號: CN102242344A
• 公開（公告）日: 2011-11-16
• 發明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種濺鍍裝置，其包括一個濺鍍腔體、一個設置于該濺鍍腔體內的固定架及多個設置于該固定架上且用于懸掛待鍍工件的料桿，其特征在于：該濺鍍裝置還包括一個位于該濺鍍腔體內的進氣裝置，該進氣裝置包括一個進氣管及與該多個料桿對應設置的多個導氣管，每個導氣管包括一個與該進氣管連通的進氣端及一個與該進氣端相對的封閉端，每個導氣管在該進氣端和該封閉端之間設有多個氣孔。

2.如權利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于：該多個氣孔的孔徑從該進氣端至該封閉端依次增大。

3.如權利要求2所述的濺鍍裝置，其特征在于：該多個氣孔沿該導氣管中心軸等間隔設置于該進氣端和該封閉端之間。

4.如權利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于：該導氣管為錐形管，該多個氣孔的孔徑相同且等間距設置。

5.如權利要求4所述的濺鍍裝置，其特征在于：該多個氣孔位于該導氣管的同一母線上，且沿該母線等間距。

6.如權利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于：該多個氣孔設于該導氣管與該料桿對應的一側。

7.如權利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于：該多個氣孔沿該導氣管的軸向呈至少一列設置于該導氣管的側壁。

8.如權利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于：該固定架包括相對設置的一個環狀上承載盤及一個環狀下承載盤，在該上承載盤及該下承載盤之間還設置有若干支撐桿以支撐固定該上承載盤及該下承載盤，該多個料桿間隔且可轉動地設置于該上承載盤和該下承載盤之間。

9.如權利要求8所述的濺鍍裝置，其特征在于：該進氣裝置還包括一個進氣管和一個設置于該固定架內側的固持架，該固持架包括一個環狀通氣管、一個與該通氣管相對設置的環狀支撐部及多個設置于該通氣管與該支撐部之間且與該料桿對應的導氣管，該導氣管的進氣端通過該通氣管與該進氣管連通，該導氣管的封閉端固設于該支撐部。

10.如權利要求8所述的濺鍍裝置，其特征在于：該上承載盤上開設有多個通孔，該導氣管穿過該多個通孔使該導氣管的封閉端與該下承載盤抵持。