[發明專利]一種等離子體發生裝置和產生等離子體的方法無效
| 申請號： | 201010168964.9 | 申請日： | 2010-05-05 |
| 公開（公告）號： | CN101835335A | 公開（公告）日： | 2010-09-15 |
| 發明（設計）人： | 歐陽吉庭;李賞;何鋒;彭祖林;繆勁松 | 申請（專利權）人： | 北京理工大學 |
| 主分類號： | H05H1/24 | 分類號： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人： | 蘇培華 |
| 地址： | 100081 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 發生 裝置 產生 方法 | ||
1.一種等離子體發生裝置，其特征在于，包括：
密封的真空倉，其包括一個進氣口和一個出氣口；
位于真空倉內的半封閉陰極空腔，其外表面用絕緣介質覆蓋；
位于真空倉內的陽極金屬板；
負高壓電源，其負極端與半封閉陰極空腔相連，接地端與陽極金屬板相連；
其中，所述半封閉陰極空腔的軸線與陽極金屬板平行；
在真空倉內通入工作氣體時，調整所述半封閉陰極空腔與陽極金屬板之間的距離，使得該距離與工作氣體氣壓的乘積大于局域放電閾值。
2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述半封閉陰極空腔為圓柱形，或者，球形，或者矩形。
3.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述絕緣介質包括云母、玻璃和陶瓷。
4.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：限流電阻，其連接在所述半封閉陰極空腔和負高壓電源之間。
5.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述負高壓電源具有可調制脈寬。
6.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述負高壓電源具有可調電壓。
7.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述半封閉陰極空腔的材料為金屬。
8.一種應用權利要求1所述的等離子體發生裝置產生等離子體的方法，其特征在于，包括：
在真空倉內通入工作氣體；
調整半封閉陰極空腔與陽極金屬板之間的距離，使得該距離與工作氣體氣壓的乘積大于局域放電閾值，其中，所述半封閉陰極空腔的外表面用絕緣介質覆蓋；
控制負高壓電源輸出負高壓脈沖；
在所述負高壓脈沖值大于放電擊穿電壓時，所述半封閉陰極空腔與陽極開始放電，并在所述半封閉陰極空腔內產生等離子體。
9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制負高壓電源輸出負高壓脈沖的步驟，包括：
調節所述負高壓脈沖的寬度和電壓的大小。
10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，還包括：
在往上調節所述負高壓脈沖的電壓的大小時，所述等離子體的放電電流增大。
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