[發明專利]太陽能電池無效
| 申請號: | 201010168797.8 | 申請日: | 2010-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN101866967A | 公開(公告)日: | 2010-10-20 |
| 發明(設計)人: | 汪連山;申志輝;劉勝 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | H01L31/042 | 分類號: | H01L31/042;H01L31/0304;H01L31/18 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 王守仁 |
| 地址: | 430074 湖北省武漢市洪山區*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 | ||
1.一種太陽能電池,其特征是一種硅基單結氮化鎵銦太陽能電池,該電池的結構為由自下而上排列的背面電極(11)、硅襯底(1)、籽晶層(2)、緩沖層(3)、n型摻雜的氮化鎵緩沖層(4)、InaGa1-aN層(5)、非故意摻雜的InbGa1-bN層(6)、p型摻雜的IncGa1-cN層(7)、窗口層(8)、正面電極(9)和減反射導電膜(10)組成,其中:硅襯底(1)和InaGa1-aN層(5)為n型摻雜結構,籽晶層(2)和緩沖層(3)由氧化鋅材料制成,窗口層(8)由p型重摻雜的氮化鎵制成,減反射導電膜(10)覆蓋窗口層(8)除正面電極(9)外的區域。
2.如權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:硅襯底(1)的電子濃度為5E14-2E20/cm3。
3.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:籽晶層(2)和緩沖層(3)的厚度分別為0.01-0.1μm、0.2-2.5μm。
4.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:n型摻雜的氮化鎵緩沖層(4)的厚度為0.5-3μm,電子濃度為1E16-1E19/cm9。
5.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述n型摻雜InaGa1-aN層(5)的厚度為0.05-0.3μm,電子濃度為5E17-5E19/cm3,0.15≤a≤0.35。
6.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述的非故意摻雜的InbGa1-bN層(6)的厚度為0.2-0.6μm,0.45≤b≤0.65。
7.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述的p型摻雜的IncGa1-cN層(7)的厚度為0.05-0.2μm,空穴濃度為1E17-1E19/cm3,0.05≤c≤0.45。
8.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述的窗口層(8)的厚度為0.05-0.2μm,空穴濃度為5E17-5E19/cm3,并使用強堿處理成絨面結構。
9.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于所述的電極中,正面電極(9)是金電極或鎳金電極或鉻金電極,厚度為0.2-5μm;背面電極(11)是銀電極或銀鋁電極,厚度為0.5-10μm。
10.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:所述的減反射導電膜(10)的材料是ITO導電膜或AZO導電膜或ZnS/MgF2膜,厚度為0.05-0.1μm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





