[發(fā)明專(zhuān)利]一種采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010168604.9 | 申請(qǐng)日： | 2010-04-30 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101834230A | 公開(kāi)（公告）日： | 2010-09-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 沈輝;陳奕峰;許欣翔;梁學(xué)勤 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 中山大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L31/18 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 廣州知友專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44104 | 代理人： | 李海波 |
| 地址： | 510275 *** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 采用 制備 保護(hù) 太陽(yáng)電池 細(xì)柵線(xiàn) 金屬電極 彩色 薄膜 方法 | ||
1.一種采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，在制備太陽(yáng)電池后，在太陽(yáng)電池前表面利用掩模對(duì)主柵線(xiàn)金屬電極進(jìn)行覆蓋，在未被掩模覆蓋的區(qū)域進(jìn)行二次鍍膜，制備保護(hù)細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的介質(zhì)層，形成介質(zhì)層一細(xì)柵線(xiàn)金屬電極一鈍化層結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，該方法的具體過(guò)程為：在制備太陽(yáng)電池后，選取掩模，加工制成掩模模具，并將掩模模具與太陽(yáng)電池進(jìn)行對(duì)位、調(diào)整，使主柵線(xiàn)金屬電極被掩模覆蓋，然后固定；將固定好掩模模具的太陽(yáng)電池放入鍍膜設(shè)備，調(diào)整鍍膜參數(shù)，對(duì)太陽(yáng)電池前表面未被掩模覆蓋的區(qū)域進(jìn)行二次鍍膜，制備保護(hù)細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的介質(zhì)層，形成介質(zhì)層一細(xì)柵線(xiàn)金屬電極一鈍化層結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的掩模為金屬掩模，所述的金屬掩模的材質(zhì)為不銹鋼、銅、硅鋼片、鋁和鎳中的一種或幾種組成的合金。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的主柵線(xiàn)金屬電極和所述的細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的材質(zhì)為銀、鋁、金、銅和鎳中的一種或幾種組成的合金。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的主柵線(xiàn)金屬電極的寬度為0.5～5mm，所述的細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的寬度為10～120μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的介質(zhì)層的主要材質(zhì)為氧化物、氮化物、硫化物和氟化物中的一種或幾種，所述的氧化物為一氧化硅、二氧化硅、三氧化二鋁、二氧化鈦、氧化鋅、二氧化鋯或三氧化二鉻；所述的氮化物為氮化硅、氮氧化硅或氮氧化鋁；所述的硫化物為硫化鋅或硫化鎘；所述的氟化物為氟化鎂。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的二次鍍膜的方式為蒸發(fā)、濺射、離子鍍或CVD。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的介質(zhì)層的厚度為1～600nm，折射率為1.1～4.0。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的鈍化層的材質(zhì)為氮化硅、氧化硅和非晶硅中的一種或幾種。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的采用掩模制備保護(hù)太陽(yáng)電池細(xì)柵線(xiàn)金屬電極的彩色薄膜的方法，其特征在于，所述的鈍化層的厚度為1～600nm，折射率為1.1～4.0。
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H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的，例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的，一個(gè)或多個(gè)電光源，如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的，并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
