[發明專利]一種鈍化保護二極管芯片及其加工方法無效
| 申請號: | 201010168467.9 | 申請日: | 2010-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN102244046A | 公開(公告)日: | 2011-11-16 |
| 發明(設計)人: | 裘立強;魏興政 | 申請(專利權)人: | 揚州杰利半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/29 | 分類號: | H01L23/29;H01L21/312 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 奚衡寶 |
| 地址: | 225008 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鈍化 保護 二極管 芯片 及其 加工 方法 | ||
1.一種鈍化保護二極管芯片,所述芯片上部邊緣處設有鈍化保護層,其特征在于,所述鈍化保護層外還設有一層耐熱、絕緣和具有彈性的緩沖保護層。
2.一種權利要求1所述一種鈍化保護二極管芯片的加工方法,以正面開口溝槽的晶片為原料;然后,在所述溝槽的邊緣采用光刻工藝設置一層具有脆性的鈍化保護層,實現PN結的鈍化,其特征在于,接著,按以下步驟加工:
1)、涂布;在晶片表面均勻涂布液態的摻有增感劑的聚酰亞胺,確保其滲入所述溝槽;
2)、軟烤;將涂布有聚酰亞胺的晶片置入90-120℃環境中,0.5-1小時,使涂層凝結;
3)、掩膜;按晶片上溝槽規則制作掩膜板,掩膜板上溝槽處透光;將掩膜板覆蓋于晶片上;
4)、光照固化;對覆蓋有掩膜板的晶片進行曝光,將掩膜板上的圖形轉移到晶片表面,經光照的涂層固化,未受光照的涂層仍為凝結狀態;隨即,去除仍為凝結狀態的涂層;
5)、燒結涂層;將上步驟加工的晶片置入280-320℃環境中,2-4小時,使固化的涂層牢固地燒結于鈍化保護層表面;
6)、裂片;制得。
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