[發(fā)明專利]真空繼電器無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010166887.3 | 申請(qǐng)日: | 2010-04-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102237222A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈冰冰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山國(guó)力真空電器有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01H33/66 | 分類號(hào): | H01H33/66;H01H33/662 |
| 代理公司: | 昆山四方專利事務(wù)所 32212 | 代理人: | 盛建德 |
| 地址: | 215301 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 繼電器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種可自動(dòng)控制斷續(xù)的電子元件,尤其是一種真空繼電器。
背景技術(shù)
目前,市場(chǎng)上現(xiàn)有的陶瓷真空繼電器由真空室、傳動(dòng)部分、線圈等組成,繼電器的耐壓除了取決于真空室內(nèi)觸點(diǎn)間隙外,還取決于真空室外的對(duì)地絕緣距離,現(xiàn)有的真空室,其形成磁管均為圓柱形、方柱形等形狀,這類繼電器其內(nèi)空間體積就決定了其對(duì)地絕緣距離,即限制了繼電器的耐壓程度,而真空室內(nèi)接觸片因其尺寸范圍有限而限制了通過(guò)電流能力;另一方面,市面上現(xiàn)有的常規(guī)陶瓷真空繼電器的常開(kāi)、常閉接觸點(diǎn)分布一致,在用戶需要成對(duì)安裝時(shí),其接線交叉使接線所占額外空間較大,增大了安裝空間且不便于安裝。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述缺陷,本發(fā)明提供了一種真空繼電器,在內(nèi)空間體積一定的情況下耐壓更高、通過(guò)電流能力更強(qiáng)。
本發(fā)明為了解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
一種真空繼電器,包括陶瓷真空室和密封間隔穿設(shè)在真空室的側(cè)壁上的三個(gè)接觸點(diǎn)桿,該三個(gè)接觸點(diǎn)桿分別為常開(kāi)接觸點(diǎn)桿、常閉接觸點(diǎn)桿和公共接觸點(diǎn)桿,其中公共接觸點(diǎn)桿朝向真空室內(nèi)的一端上設(shè)有接觸片,所述接觸片上的一對(duì)接觸臂為背向公共接觸點(diǎn)桿彎折成型,陶瓷真空室呈開(kāi)口圓桶狀,所述陶瓷真空室的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái),這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離,提高了產(chǎn)品的耐壓水平。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述凸臺(tái)呈多級(jí)環(huán)形臺(tái)階狀,各級(jí)環(huán)形臺(tái)階的臺(tái)階面寬度沿真空室的側(cè)壁面自真空室的開(kāi)口處朝向真空室的封閉面逐個(gè)徑向縮小。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述凸臺(tái)呈圓環(huán)狀。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述凸臺(tái)與陶瓷真空室的開(kāi)口處端緣之間呈倒角過(guò)渡。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述接觸片上的接觸臂的兩側(cè)緣于接觸臂彎折處分別向內(nèi)開(kāi)設(shè)形成缺口,這樣可防止接觸片的彎折處發(fā)生角部畸變及形成裂紋,從而可使接觸片的接觸臂在有限的尺寸范圍內(nèi)盡可能加寬,以達(dá)到最大的通過(guò)電流。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述陶瓷真空室穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿、常閉接觸點(diǎn)桿和公共接觸點(diǎn)桿的布局與常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局一致(常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的結(jié)構(gòu),本處不再詳細(xì)敘述出其具體結(jié)構(gòu))。
作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),所述陶瓷真空室穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿和常閉接觸點(diǎn)桿相對(duì)常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局位置互換(常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的結(jié)構(gòu),本處不再詳細(xì)敘述出其具體結(jié)構(gòu))。常開(kāi)接觸點(diǎn)桿和常閉接觸點(diǎn)桿的位置互換,形成接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器,與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器配合,可方便用戶成對(duì)安裝真空繼電器,減少接線所需要的額外空間,大大縮小了安裝空間。
具體實(shí)施時(shí)可適當(dāng)增大接觸點(diǎn)桿的徑向截面直徑,以增加真空室外接觸點(diǎn)間的絕緣距離,進(jìn)一步增加繼電器的耐壓性能。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的陶瓷真空室的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái),這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離,提高了產(chǎn)品的耐壓水平;所采用的接觸片上的接觸臂的兩側(cè)緣于接觸臂彎折處分別向內(nèi)開(kāi)設(shè)形成缺口,這樣可防止接觸片的彎折處發(fā)生角部畸變及形成裂紋,從而可使接觸片的接觸臂在有限的尺寸范圍內(nèi)盡可能加寬,以達(dá)到最大的通過(guò)電流;同時(shí)設(shè)計(jì)出接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器配合成對(duì)使用,可方便用戶成對(duì)安裝真空繼電器,減少接線所需要的額外空間,大大縮小了安裝空間。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明所對(duì)比的常規(guī)真空繼電器的俯視圖;
圖2為本發(fā)明中所述接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器的俯視圖;
圖3為常規(guī)真空繼電器成對(duì)安裝的接線示意圖;
圖4為本發(fā)明所述接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器配合成對(duì)安裝的接線示意圖;
圖5為本發(fā)明的外觀示意圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例:一種真空繼電器,包括陶瓷真空室1和密封間隔穿設(shè)在真空室1的側(cè)壁上的三個(gè)接觸點(diǎn)桿,該三個(gè)接觸點(diǎn)桿分別為常開(kāi)接觸點(diǎn)桿21、常閉接觸點(diǎn)桿22和公共接觸點(diǎn)桿23,其中公共接觸點(diǎn)桿23朝向真空室內(nèi)的一端上設(shè)有接觸片4,所述接觸片4上的一對(duì)接觸臂40為背向公共接觸點(diǎn)桿23彎折成型,陶瓷真空室1呈開(kāi)口圓桶狀,所述陶瓷真空室1的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái)3,這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離,提高了產(chǎn)品的耐壓水平。
所述凸臺(tái)3呈多級(jí)環(huán)形臺(tái)階狀,各級(jí)環(huán)形臺(tái)階的臺(tái)階面寬度沿真空室1的側(cè)壁面自真空室1的開(kāi)口處朝向真空室1的封閉面逐個(gè)徑向縮小。
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- 專利分類
H01H 電開(kāi)關(guān);繼電器;選擇器;緊急保護(hù)裝置
H01H33-00 帶有滅弧或防弧裝置的高壓或大電流開(kāi)關(guān)
H01H33-02 .零部件
H01H33-60 .不包括單獨(dú)為產(chǎn)生或增強(qiáng)滅弧流體流動(dòng)裝置的開(kāi)關(guān)滅弧或防弧裝置的開(kāi)關(guān)
H01H33-70 .帶有單獨(dú)的控制、產(chǎn)生,或增強(qiáng)滅弧流裝置的開(kāi)關(guān)
H01H33-72 ..帶控制滅弧流的靜止部件的,如帶有滅弧室
H01H33-76 ..滅弧氣體從靜止部件中放出的;其材料的選擇





