[發明專利]鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201010164552.8
• 申請日: 2010-05-06
• 公開（公告）號: CN102234772A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 裴紹凱
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜裝置，包括：

基座，其具有相對的承載面和底面，該承載面用于承載待鍍工件，自該承載面向基座內開設有多個凹槽；

驅動機構，其包括馬達和多個轉軸，該多個轉軸分別設置在該多個凹槽內且可相對該多個凹槽轉動，該馬達用于驅動該多個轉軸轉動；

多個沿凹槽設置的間隔導板，該多個間隔導板將該承載面分割形成多個間隔區域，其中，每一間隔導板與相應的一轉軸固定連接，每一間隔導板可在對應的轉軸的帶動下轉動并與該基座的承載面成一夾角；及

導氣部，其設置在該基座的上方并具有多個導氣口，該多個導氣口與該多個間隔區域一一對應。

2.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，該多個轉軸中的每一轉軸對應設有一個馬達，每一馬達用于驅動對應的一轉軸轉動。

3.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，該基座還具有連接于該承載面與底面之間的側面，該多個凹槽垂直于該側面，該多個凹槽平行于該側面的截面為圓弧。

4.如權利要求3所述的鍍膜裝置，其特征在于，該圓弧的弧度大于180度。

5.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，該基座內還設置有冷卻管道，該冷卻管道埋設在相鄰的兩間隔導板之間的承載面的下方。

6.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，該基座為長方體，該多個凹槽在該基座上等間距分布。

7.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于，該基座為圓柱體，該承載面為圓形，該承載面的中心設置有一個固定部，該固定部為圓柱體，該多個凹槽圍繞該固定部設置且該多個凹槽的沿該固定部徑向延伸。

8.如權利要求7所述的鍍膜裝置，其特征在于，該多個凹槽沿該固定部的圓周方向上等間距分布。

9.如權利要求7所述的鍍膜裝置，其特征在于，該固定部的中心開設有一個圓槽，該圓槽包括一個氣缸以及一個收縮段，該氣缸的孔徑大于該收縮段的孔徑，且該收縮段遠離該基座，該導氣部延伸形成有一個活塞，該活塞包括活塞桿以及設置在該活塞桿末端的活塞環，該活塞環與該氣缸氣密配合。

10.如權利要求9所述的鍍膜裝置，其特征在于，該活塞桿的直徑等于該收縮段的孔徑，該活塞環的直徑等于該氣缸的孔徑。