[發明專利]高反射率光學膜片及其制作方法

無效

• 申請號: 201010164405.0
• 申請日: 2010-04-15
• 公開（公告）號: CN102221718A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發明（設計）人: 施希弦;吳國龍;陳柏村
• 申請（專利權）人: 奇菱科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;G02B1/00;G02F1/13357
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 周長興

1.一種高反射率光學膜片，主要包含一基材，該基材內部摻有復數個第一微粒子與復數個第二微粒子，其特征在于：

該基材為非結晶性高分子材料；

該第一微粒子為結晶性高分子材料，且該第一微粒子與該基材之間形成有細微有間隙；以及

該第二微粒子為無機材料。

2.依據權利要求1所述的高反射率光學膜片，其中，該非結晶性高分子材料選自于由聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、三醋酸纖維素、聚碳酸酯所構成的群組，且該第一微粒子的結晶性高分子材料選自于由聚乙烯或聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯所構成的群組，以及該第二微粒子的無機材料選自于由二氧化鈦、二氧化硅、氧化鋅、氧化鋁、硫酸鈣、硫酸鋇及碳酸鈣所構成的群組。

3.依據權利要求1所述的高反射率光學膜片，其中，該第二微粒子的粒徑介于1至100納米之間。

4.依據權利要求1所述的高反射率光學膜片，其中，該基材包含復數個氣孔，該第一微粒子容置于該氣孔內，使該第一微粒子與氣孔的孔壁之間形成有細微的間隙。

5.一種高反射率光學膜片，主要包含一基材，該基材內部摻有復數個第一微粒子與復數個第二微粒子，其特征在于：

該基材與該第一微粒子為結晶性高分子材料，且該第一微粒子的結晶速率大于該基材的結晶速率，該第一微粒子與該基材之間形成有細微的間隙；以及

該第二微粒子為無機材料。

6.依據權利要求5所述的高反射率光學膜片，其中，該基材及該第一微粒子的結晶性高分子材料選自于由聚乙烯或聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯所構成的群組，且該第二微粒子的無機材料選自于由二氧化鈦、二氧化硅及、氧化鋅、氧化鋁、硫酸鈣、硫酸鋇及碳酸鈣所構成的群組。

7.依據權利要求5所述的高反射率光學膜片，其中，該第二微粒子的粒徑介于1至100納米之間。

8.依據權利要求5所述的高反射率光學膜片，其中，該基材包含復數個氣孔，該第一微粒子容置于該氣孔內，使該第一微粒子與氣孔的孔壁之間形成有細微的間隙。

9.一種高反射率光學膜片制作方法，包含：

提供一基材，該基材為非結晶性高分子材料；

提供第一微粒子，該第一微粒子為結晶性高分子材料；

提供第二微粒子，該第二微粒子為無機材料；

混合上述基材、第一微粒子與第二微粒子，使成均勻狀態的混合物；

以及

提供一適當的溫度與壓力使該混合物經由一成型方法而形成一高反射率光學膜片，且該第一微粒子與該基材之間形成有細微的間隙。

10.一種高反射率光學膜片制作方法，包含

提供一基材，該基材為結晶性高分子材料；

提供第一微粒子，該第一微粒子為結晶性高分子材料，且該第一微粒子的結晶速率大于該基材的結晶速率；

提供第二微粒子，該第二微粒子為無機材料；

混合上述基材、第一微粒子與第二微粒子，使成均勻狀態的混合物；

以及

提供一適當的溫度與壓力使該混合物經由一成型方法而形成一高反射率光學膜片，且該第一微粒子與該基材之間形成有細微的間隙。