[發明專利]微米級和納米級表面紋理化含鈦制品及其制備方法無效
| 申請號: | 201010164361.1 | 申請日: | 2010-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN101879325A | 公開(公告)日: | 2010-11-10 |
| 發明(設計)人: | W·童;L·薩爾瓦蒂;S·A·瓦斯 | 申請(專利權)人: | 德普伊產品公司 |
| 主分類號: | A61L27/06 | 分類號: | A61L27/06;A61L27/50 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 曹小剛;李連濤 |
| 地址: | 美國印*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微米 納米 表面 紋理 化含鈦 制品 及其 制備 方法 | ||
1.一種方法,其包括將包含至少一個包含鈦或鈦合金的表面的制品與含氫離子(H+)和氯離子(Cl-)的溶液接觸,其中所述氯離子部分地或全部地由至少一種含氯根的鹽的溶解產生,所述接觸進行的時間和溫度有效形成多個獨立地具有約200納米至10微米的直徑的表面特征。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述溶液具有至少約0.07N的H+濃度和至少1N的Cl-濃度。
3.根據權利要求2所述的方法,其中所述溶液具有約0.07N的H+濃度,Cl-濃度為至少6N。
4.根據權利要求2所述的方法,其中所述溶液具有約0.8N的H+濃度,Cl-濃度為至少1N。
5.根據權利要求1所述的方法,其中所述溶液為包含溶解的氯化物鹽的鹽酸溶液,所述溶液具有大于1的[Cl-]/[H+]。
6.根據權利要求5所述的方法,其中所述溶液具有約0.07至約12N的H+濃度以及高于所述H+濃度的Cl-濃度。
7.根據權利要求1所述的方法,其中將所述制品與所述溶液在約20至約100℃的溫度下接觸。
8.根據權利要求1所述的方法,其中將所述制品與所述溶液接觸約30分鐘至5小時。
9.根據權利要求1所述的方法,其還包括將所述表面在與所述溶液接觸前先進行粗糙化。
10.根據權利要求1所述的方法,其中所述制品為關節置換假體或其元件。
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