[發明專利]器件制造方法和光刻設備

有效

• 申請號: 201010163948.0
• 申請日: 2010-04-16
• 公開（公告）號: CN101866117A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: L·C·德溫特;J·M·芬德爾斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王新華

1.一種將交替型相移掩模的掩模圖案投影到襯底上的器件制造方法，所述方法包括步驟：

用輻射束照射所述掩模圖案，以提供從所述掩模圖案發射的零級衍射輻射、第一第一級衍射輻射和第二第一級衍射輻射；

采用投影系統將所述掩模圖案成像到襯底上；和

使用光學相位調節器調節相位，其中所述零級和第一級衍射輻射穿過所述光學相位調節器，所述調節包括步驟：

使用所述相位調節器調節所述零級衍射輻射的相位、以基本上匹配所述第一第一級衍射輻射的相位，或反之亦然，和

使用所述相位調節器調節所述第二第一級衍射輻射的相位、以基本上匹配所述第一第一級衍射輻射的相位加180°。

2.根據權利要求1所述的方法，還包括步驟：

將180°相位差應用到相位調節器的兩個子區域，對于光學場的電振幅的減小將改善焦深的衍射束的在光學相位調節器處的覆蓋區包括所述兩個子區域，并且所述子區域的尺寸布置成使得子區域在使用時被衍射束的強度基本上相等的部分穿過。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，光學場的電振幅的減小將改善焦深的衍射束是零級衍射束。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其中，所述兩個子區域沿連接使用時被所述第一和第二第一級衍射束穿過的區域的軸線被分開。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述連接軸線限定由所述零級衍射束穿過的所述區域的子區域、由所述第一第一級衍射束穿過的所述區域的子區域以及由所述第二第一級衍射束穿過的所述區域的子區域。

6.根據權利要求3-5中任一項所述的方法，包括步驟：

將+90°相位調節應用到由所述零級衍射束的一部分穿過的子區域中的一個子區域；和

將-90°相位調節應用到由所述零級衍射束的一部分穿過的子區域中的另一個子區域。

7.一種光刻設備，包括：相位調節器，所述相位調節器構造并布置成調節穿過所述光刻設備的投影系統的光學輻射束的電場的相位；和控制器，所述控制器構造并布置成將空間相位分布應用到穿過所述相位調節器的光波，所述控制器包括包含機器可讀指令的計算機程序，所述機器可讀指令布置成

使用所述相位調節器調節零級衍射輻射的相位、以基本上匹配第一第一級衍射輻射的相位，或反之亦然，和

使用所述相位調節器調節第二第一級衍射輻射的相位、以基本上匹配第一第一級衍射輻射的相位加180°，

其中

用輻射束照射掩模圖案以提供所述零級衍射輻射，從所述掩模圖案發射的所述第一第一級衍射輻射和所述第二第一級衍射輻射以及所述零級和第一級衍射輻射穿過所述光學相位調節器，和

使用所述投影系統將所述掩模圖案成像到襯底上。

8.如權利要求7所述的設備，其中，所述包含機器可讀指令的計算機程序布置成將180°相位差應用到所述相位調節器的兩個子區域，對于光學場的電振幅的減小將改善焦深的衍射束的在光學相位調節器處的覆蓋區包括所述兩個子區域，并且所述子區域的尺寸布置成使得子區域在使用時被衍射束的強度基本上相等的部分穿過。

9.如權利要求8所述的設備，其中，光學場的電振幅的減小將改善焦深的衍射束是零級衍射束。

10.如權利要求8或9所述的設備，其中，所述兩個子區域沿連接使用時被所述第一和第二第一級衍射束穿過的區域的軸線被分開。

11.如權利要求10所述的設備，其中，所述連接軸線限定由所述零級衍射束穿過的所述區域的子區域、由所述第一第一級衍射束穿過的所述區域的子區域以及由所述第二第一級衍射束穿過的所述區域的子區域。

12.如權利要求9-11中任一項所述的設備，其中，所述包含機器可讀指令的計算機程序布置成：

將+90°相位調節應用到由所述零級衍射束的一部分穿過的子區域中的一個子區域；和

將-90°相位調節應用到由所述零級衍射束的一部分穿過的子區域中的另一個子區域。

13.一種將圖案形成裝置的圖案投影到襯底上的器件制造方法，所述方法包括步驟：

從所述圖案形成裝置的所述圖案發射零級衍射輻射、第一第一級衍射輻射和第二第一級衍射輻射；

使用投影系統將所述圖案成像到襯底上；和

使用光學相位調節器調節所述衍射輻射的至少一部分的相位，其中所述零級和第一級衍射輻射穿過所述光學相位調節器，所述調節包括步驟：

調節相位使得所述零級衍射輻射的相位基本上匹配所述第一第一級衍射輻射的相位，和

調節相位使得所述第二第一級衍射輻射的相位基本上匹配所述第一第一級衍射輻射的相位加180°。