[發明專利]成像系統及像素缺陷校正裝置無效
| 申請號: | 201010163617.7 | 申請日: | 2007-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN101800848A | 公開(公告)日: | 2010-08-11 |
| 發明(設計)人: | 角谷彰規 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | H04N5/217 | 分類號: | H04N5/217 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 黃小臨 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 系統 像素 缺陷 校正 裝置 | ||
本申請為以下專利申請的分案申請:申請日為2007年10月15日,申請 號為200710144183.4,發明名稱為《成像系統及像素缺陷校正裝置》。
相關申請的交叉引用
本發明包含涉及2006年10月13日在日本專利局提交的日本專利申請JP 2006-279963以及2007年1月29日在日本專利局提交的日本專利申請JP2007-017884 的主題,通過引用將其全部內容合并在此。
技術領域
本發明涉及利用固態成像裝置(元件)的像素缺陷校正裝置以及利用該裝置的 成像系統。
背景技術
CCD(電荷耦合器件)、CMOS(互補金屬氧化物半導體)或其它固態成像裝 置(元件),或者利用它們的成像系統(也可描述為“照相機設備”)中的像素缺陷, 可分為兩種類型;如在制造過程中出貨(shipment)之前發生的晶體缺陷(crystal defect)和在出貨之后出現的二次缺陷(secondary?defect)。已經提出了各種缺陷校正 方法來防止由這些缺陷引起的圖像退化。
例如,在出貨固態成像裝置(元件)或成像系統之后可能逐漸出現的二次缺陷 由于固態成像裝置(元件)中實現的較高像素密度的結果而增加。因此,對校正計 數沒有限制時,動態缺陷檢測和校正方法變得普及。
然而,在固態成像裝置(元件)或成像系統的動態缺陷檢測或校正中,高頻分 量(high?frequency?component)和像素缺陷之間的鑒別(discrimination)包含相當大 的困難。結果,高頻分量可能被誤認為是缺陷。這種決定導致過校正,如果某一文 字或點包含高頻分量,則會從圖像中錯誤地消除應該存在的線或點。
為了固態成像裝置(元件)或成像系統的檢測校正,在出貨時通常鉗位(clamp) 亮度等級并且利用被完全阻止(blocked)的光或者給定有效亮度的光來執行靜態檢測 和校正,因為這抑制了不正確的檢測或校正。
對于固態成像裝置(元件)或成像系統的二次缺陷,通常執行動態檢測和校正 而不限制校正計數,這是因為二次缺陷由于所實現的較高像素密度的結果而增加。 而且,在安裝之后的設置變化或重新調整依賴于成像系統的安裝位置而變得很困難。
發明內容
諸如在通電時的缺陷檢測和校正之類的調整已經是產品出貨的先決條件。然 而,在監控成像和其他系統中,在安裝之后的設置變化或重新調整取決于安裝位置 而困難。結果,可能無法處理出貨時或安裝之后的二次缺陷。此外,在固態成像裝 置(元件)中實現的較高像素密度導致像素計數的增加。這反過來導致二次缺陷數 目的增加。因此,通過在校正計數方面無限制的動態缺陷檢測和校正來校正二次缺 陷變得普通。然而,在動態缺陷檢測和校正中,高頻分量和像素缺陷之間的鑒別存 在困難。結果,高頻分量可能被誤認為缺陷。這導致過校正,如果其包含高頻分量 則錯誤地消除應該存在的線或點,并且使得不可能在視覺上識別線或點。此外,如 果線或點是該對象的特征點,則圖像將會被破壞。
另一方面,圖像捕獲或再現期間所需的缺陷檢測和校正隨著屏幕上圖像的該校 正有缺陷的像素而導致被破壞的顯示圖像。
固態成像裝置在其出貨或者合并該成像裝置的成像系統(照相機設備)的出貨 之后可逐漸形成二次缺陷。根據上面所述,本發明期望適當地限制過校正。為了實 現此期望,根據本實施例,利用計時計數器(計時部件)來測量固態成像裝置或者 利用固態成像裝置的成像系統(照相機設備)的操作時間。更具體地,測量從二次 缺陷的靜態檢測或校正的瞬間開始的操作時間。其次,基于固態成像裝置和成像系 統的缺陷率及其操作時間來計算二次缺陷計數分布。然后,針對計算出的二次缺陷 計數分布設定過校正確定閾值。最后,分配諸如市場缺陷率之類的設置來確定適當 的校正計數,由此適當地限制過校正。本發明的另一個期望是在缺陷校正不影響屏 幕上的圖像時,如在給定的時間間隔或圖像載入期間無需記錄圖像時執行靜態缺陷 校正。
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