[發明專利]在工藝品坯體表面塑造光滑凹凸紋理的方法

無效

• 申請號: 201010162807.7
• 申請日: 2010-04-30
• 公開（公告）號: CN101817284A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發明（設計）人: 蘇自兵
• 申請（專利權）人: 重慶工商大學
• 主分類號: B44C5/04
• 分類號: B44C5/04;B44C3/04
• 代理公司: 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275
• 代理人: 謝殿武

1.一種在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋理的方法，其特征在于：包括如下步 驟：

a.將工藝品胚體表面打磨光滑；

b.取堆塑泥粘附于胚體表面形成泥層，堆塑泥的原料按重量份包括如下成分： 液體乳膠50-60、滑石粉200、粉煤灰10-20和水40-50；

c.取帶有凹凸紋理的模板并在模板紋理表面涂覆脫模劑，再將模板壓于泥層上 并將帶有模板的胚體于22-28℃溫度、30-60％濕度的環境中靜置2-4小時后， 脫模；

d.胚體于22-28℃溫度、30-60％濕度的環境中靜置至水分含量不大于20％后， 在泥層表面上色或修飾；

e.在經上色或修飾后的胚體表面涂刷固化漆層，待固化漆層固化后即得。

2.根據權利要求1所述的在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋理的方法，其特征 在于：所述堆塑泥的原料按重量份還包括：粘土粉30-40和甘油5-7。

3.根據權利要求2所述的在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋理的方法，其特征 在于：所述堆塑泥的原料按重量份包括：液體乳膠60、滑石粉200、粉煤灰15、 粘土粉40、甘油5和水45。

4.根據權利要求3所述的在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋理的方法，其特征 在于：步驟c中所述溫度為25℃，濕度為40％。

5.根據權利要求3所述的在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋理的方法，其特征 在于：步驟d中所述溫度為25℃，濕度為40％。

6.根據權利要求1-5任一權利要求所述的在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋 理的方法，其特征在于：堆塑泥的原料中，固體物料的粒度均不低于200目。

7.根據權利要求6所述的在工藝品胚體表面塑造光滑凹凸紋理的方法，其特征 在于：堆塑泥制作方法為：按所述比例將固體物料與水混合，攪拌均勻后加入 剩余物料，繼續攪拌至各種物料混合充分均勻即得。