[發明專利]一種直接生成氣態氯化氫的二甲基二氯硅烷水解方法

有效

• 申請號: 201010162802.4
• 申請日: 2010-04-30
• 公開（公告）號: CN101817505A
• 公開（公告）日: 2010-09-01
• 發明（設計）人: 孔鑫明;周海楊;劉劭農;周錦楓;鄧青松;程晨杰;湯曉娟;江鈞鈞;張俊杰
• 申請（專利權）人: 浙江金帆達生化股份有限公司
• 主分類號: C01B7/01
• 分類號: C01B7/01;C07F7/16
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所 33213
• 代理人: 吳秉中

1.一種直接生成氣態氯化氫的二甲基二氯硅烷水解方法，其特征在于包括以下工藝步驟：

1）將二甲基二氯硅烷通過噴射型混合器與濃鹽酸預混合后，進入靜態混合器進行濃鹽酸帶壓水解，得到反應混合物；所述的噴射型混合器中濃鹽酸循環體積流量和二甲基二氯硅烷體積流量比為15～30：1，靜態混合器中水解溫度為0℃～40℃，操作壓力為0.05MPa～0.2MPa；所述的靜態混合器由石墨、陶瓷、搪玻璃、塑料或鋼襯塑材料中的一種以上物質構成；

2）將步驟1）得到的反應混合物通入帶板式塔的組合式分離器中，將反應混合物中的酸油、酸和氣分離，所述的帶板式塔的組合式分離器為重力沉降式氣液分離器；

3）將步驟2）得到的酸油依次通過稀鹽酸常壓水解、水洗、中和及水洗，得到商品甲基硅氧烷，稀鹽酸常壓水解中生成的鹽酸作為步驟1）中濃酸帶壓水解的原料循環使用；

4）將步驟2）分離得到的氣體經冷凝除水、提純后，得到純凈氯化氫，將步驟2）分離得到的酸進入步驟1）的噴射型混合器中進行循環使用。

2.如權利要求1所述的一種直接生成氣態氯化氫的二甲基二氯硅烷水解方法，其特征在于所述的步驟1）中濃鹽酸的質量濃度為36～50%。

3.如權利要求1所述的一種直接生成氣態氯化氫的二甲基二氯硅烷水解方法，其特征在于所述的步驟3）中稀鹽酸的質量濃度為2～30%，中和采用質量濃度為5%～30%的純堿溶液或質量濃度為2%～10%的燒堿溶液。

4.如權利要求1所述的一種直接生成氣態氯化氫的二甲基二氯硅烷水解方法，其特征在于所述的步驟3）中稀鹽酸的質量濃度為10～20%，中和采用質量濃度為10%～20%的純堿溶液或質量濃度為5%～8%的燒堿溶液。