[發明專利]減反增透涂層和超疏水自清潔減反增透涂層及其制備方法

無效

• 申請號: 201010162746.4
• 申請日: 2010-04-28
• 公開（公告）號: CN102234183A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發明（設計）人: 賀軍輝;李曉禹
• 申請（專利權）人: 中國科學院理化技術研究所
• 主分類號: C03C17/23
• 分類號: C03C17/23;C03C17/34
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 李柏

1.一種減反增透涂層，其特征是：所述的減反增透涂層是由粒徑為10～100nm的SiO₂球形納米粒子層構成，該減反增透涂層的表面具有粗糙結構。

2.一種超疏水自清潔的減反增透涂層，其特征是：所述的超疏水自清潔的減反增透涂層是在權利要求1的由粒徑為10～100nm的SiO₂球形納米粒子層構成的減反增透涂層的表面有一層低表面能物質，并且低表面能物質層的表面具有粗糙結構；

所述的低表面能物質選自三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷、十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷、六氟丁基丙基三甲氧基硅烷中的一種。

3.一種根據權利要求1所述的減反增透涂層的制備方法，其特征是，所述的方法包括以下步驟：

(1)將基板處理干凈，去除表面污染物；

(2)將步驟(1)用惰性氣體吹干后得到的基板浸入到濃度為1～3mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化銨的水溶液中2～10分鐘后取出，在基板表面沉積一層聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層，用蒸餾水洗滌以除去物理吸附的聚二烯丙基二甲基氯化銨，用惰性氣體吹干；然后再浸入到濃度為1～3mg/mL的聚苯乙烯磺酸鈉水溶液中2～10分鐘，取出，用蒸餾水洗滌，用惰性氣體吹干，在聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層上又沉積一層聚苯乙烯磺酸鈉涂層；重復上述沉積聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層和聚苯乙烯磺酸鈉涂層的工藝步驟，直至得到總共沉積有5～20層由聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層與聚苯乙烯磺酸鈉涂層構成的雙層，然后再重復上述沉積聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層的工藝步驟，得到在基板上沉積的最后一層為聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層的基板；

(3)將步驟(2)制備得到的最后一層為聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層的基板浸入到含有粒徑為10～100nm的SiO₂球形納米粒子的乙醇懸浮液中2～10分鐘，取出用蒸餾水洗滌，惰性氣體吹干，在聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層表面沉積一層SiO₂球形納米粒子層；然后再浸入到濃度為1～3mg/mL的聚二烯丙基二甲基氯化銨水溶液中2～10分鐘后取出，在SiO₂球形納米粒子層表面沉積一層聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層，用蒸餾水洗滌以除去物理吸附的聚二烯丙基二甲基氯化銨，用惰性氣體吹干；重復上述沉積SiO₂球形納米粒子層和沉積聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層的工藝步驟，直至在步驟(2)得到的最后一層為聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層的基板上，得到總共沉積有2～14層由粒徑為10～100nm的SiO₂球形納米粒子層與聚二烯丙基二甲基氯化銨涂層構成的雙層，然后再重復上述沉積SiO₂球形納米粒子層的工藝步驟，得到在基板上沉積的最后一層是粒徑為10～100nm的SiO₂球形納米粒子層的基板；

(4)將步驟(3)制備得到的最外層為SiO₂球形納米粒子層的基板放入馬弗爐中，在溫度為500～600攝氏度下燒結，以除去聚電解質聚二烯丙基二甲基氯化銨與聚苯乙烯磺酸鈉，在基板上得到所述的減反增透涂層。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征是：步驟(4)所述的燒結時間為2～5小時。

5.根據權利要求3所述的制備方法，其特征是：步驟(3)所述的含有粒徑為10～100nm的SiO₂球形納米粒子的乙醇懸浮液的質量濃度為0.1％～1％。

6.根據權利要求3所述的制備方法，其特征是：所述的基板是平板玻璃。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征是：所述的平板玻璃是玻璃窗戶、玻璃天窗、玻璃幕墻、家庭浴室鏡子、汽車擋風玻璃、汽車后視鏡、汽車后景玻璃或眼睛片。