[發明專利]一種在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法

有效

• 申請號: 201010161933.0
• 申請日: 2010-05-04
• 公開（公告）號: CN101892459A
• 公開（公告）日: 2010-11-24
• 發明（設計）人: 陳暢子;胡隆偉;詹興剛
• 申請（專利權）人: 貴州航天精工制造有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02;C23C14/58;B08B3/12
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所 52100
• 代理人: 劉楠

1.?一種在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：按下述步驟對鈦合金零件制備鋁涂層：去除鈦合金零件表面油漬→對鈦合金零件進行氬等離子濺射清洗→在鈦合金零件上沉積鋁涂層。

2.根據權利要求1所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述去除鈦合金零件表面油漬是將鈦合金零件置入超聲波清洗設備中20～40分鐘后取出干燥。

3.根據權利要求2所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述去除鈦合金零件表面油漬是將鈦合金零件置入超聲波清洗設備中30分鐘后取出干燥。

4.根據權利要求1所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述對鈦合金零件進行氬等離子濺射清洗是將鈦合金零件置入大功率中頻磁控濺射設備的真空室內，抽真空至3.6×10^-3Pa，通入1～2Pa氬氣，對鈦合金零件進行氬等離子濺射清洗8～12分鐘。

5.根據權利要求4所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述對鈦合金零件進行氬等離子濺射清洗是將鈦合金零件置入大功率中頻磁控濺射設備的真空室內，抽真空至3.6×10^-3Pa，通入1～2Pa氬氣，對鈦合金零件進行氬等離子濺射清洗10分鐘。

6.根據權利要求4或5所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述氬等離子濺射是在鈦合金零件上施加-1500V的偏壓，使零件與氬氣之間產生輝光放電，由輝光放電形成的氬等離子體對鈦合金零件進行氬等離子體濺射清洗。

7.根據權利要求1所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述在鈦合金零件上沉積鋁涂層是將鈦合金零件置入大功率中頻磁控濺射設備的真空室內的同時將99.9%的純鋁也置入真空室作為靶材；對靶材施加8～12A的電流進行預濺射清洗4～6分鐘，除去靶材表面的氧化物等雜質；將氬氣壓強調整至0.5×10^-1Pa～6×10^-1Pa，在零件上施加0～-500V的負偏壓，在靶材上施加800V的濺射電壓，在＜200℃的溫度下沉積1～3小時，在鈦合金零件上沉積出厚度為3～12微米的鋁涂層；然后依次關閉靶電源，負偏壓和氬氣流量控制系統。

8.根據權利要求7所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述沉積鋁涂層是在將鈦合金零件置入真空室的同時將99.9%的純鋁也置入真空室作為靶材；對靶材施加10A的電流進行預濺射清洗5分鐘，除去靶材表面的氧化物等雜質；將氬氣壓強調整至10^-1Pa～6×10^-1Pa，在零件上施加150～500V的負偏壓，在靶材上施加800V的濺射電壓，在180℃的溫度下沉積2.5小時，在鈦合金零件上沉積出厚度為3～5微米的鋁涂層；然后依次關閉靶電源，負偏壓和氬氣流量控制系統。

9.根據權利要求1所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：在所述的沉積鋁涂層步驟之后，再對鈦合金零件進行鉻酸鹽處理得更優異的金黃色高耐腐蝕性鋁涂層；所述的鉻酸鹽處理是將沉積鋁涂層后的鈦合金零件置入30～40℃的鉻酸鹽處理液中浸泡8～12秒后取出。

10.根據權利要求9所述的在鈦合金零件上制備高純度耐腐蝕鋁涂層的方法，其特征在于：所述的鉻酸鹽處理是將沉積鋁涂層后的鈦合金零件置入30～40℃的鉻酸鹽處理液中浸泡10秒后取出。