[發(fā)明專利]粘結(jié)比色皿平面研磨加工方法及研磨固定用基板無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010161306.7 | 申請(qǐng)日： | 2010-04-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101844322A | 公開（公告）日： | 2010-09-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李建潮;歐仕明 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 宜興市晶科光學(xué)儀器有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B24B7/24 | 分類號(hào)： | B24B7/24;B24B41/00 |
| 代理公司： | 宜興市天宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 32208 | 代理人： | 蔡鳳苞;史建群 |
| 地址： | 214257 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 粘結(jié) 比色 平面 研磨 加工 方法 固定 用基板 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.比色皿粘結(jié)平面研磨加工方法，包括彎板粘結(jié)固定于平面基板，放在研磨盤上研磨固定對(duì)側(cè)面，其特征在于所說研磨彎板粘結(jié)固定于網(wǎng)紋平面基板。
2.比色皿粘結(jié)平面磨加工用研磨固定用基板，包括平面基板，其特征在于所說平面基板粘結(jié)平面呈網(wǎng)紋狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述比色皿粘結(jié)平面研磨加工用研磨固定用基板，其特征在于網(wǎng)紋每個(gè)接觸點(diǎn)不大于10mm2，接觸點(diǎn)與接觸點(diǎn)間隔大于2mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述比色皿粘結(jié)平面研磨加工用研磨固定用基板，其特征在于網(wǎng)紋接觸點(diǎn)平面≤5*5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述比色皿粘結(jié)平面研磨加工用研磨固定用基板，其特征在于網(wǎng)紋槽寬2mm，槽深2mm，每條槽間隔5mm。
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