[發(fā)明專利]一種用于背光模塊的微成型片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010160660.8 | 申請(qǐng)日： | 2010-04-23 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101852949A | 公開(kāi)（公告）日： | 2010-10-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 金長(zhǎng)松;金青松 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海凱鑫森產(chǎn)業(yè)投資控股有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/13357 | 分類號(hào)： | G02F1/13357;F21V5/04;F21V5/08 |
| 代理公司： | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 任默聞 |
| 地址： | 201100 上海市金*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 背光 模塊 成型 | ||
1.一種用于背光模塊的微成型片，其特征在于，包括：
基材層，由透光性材料構(gòu)成；涂層，形成于所述基材層上側(cè)的表面，所述涂層包含膠黏劑及納米粒子；微成型陣列層，位于所述涂層上側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的微成型片，其特征在于：所述涂層的厚度為0.1μm至3μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的微成型片，其特征在于：所述納米粒子包括以下物質(zhì)的至少一種，二氧化硅、礬土、二氧化鈦、氧化鋯、氫氧化鋁、硫化鋇或硅酸鎂，及上述物質(zhì)的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的微成型片，其特征在于：所述納米粒子由二氧化硅構(gòu)成，并且所述納米粒子的粒徑為10nm至100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的微成型片，其特征在于：相對(duì)于膠黏劑100重量份，所述涂層的納米粒子的含量為5至50重量份。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于背光模塊的微成型片，其特征在于：所述膠黏劑包括以下物質(zhì)的至少一種，聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚芳酯或聚酰亞胺中的至少一種樹脂。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
