[發(fā)明專利]靶材基座及采用該靶材基座的鍍膜裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010158840.2
• 申請(qǐng)日: 2010-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN102234783A
• 公開（公告）日: 2011-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 裴紹凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56;C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種靶材基座，用于一鍍膜裝置，該靶材基座包括：

基臺(tái)，固定在該鍍膜裝置內(nèi)；

旋轉(zhuǎn)載臺(tái)，設(shè)置在基臺(tái)上且能夠相對(duì)該基臺(tái)旋轉(zhuǎn)；

多個(gè)靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺(tái)周圍，每個(gè)靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺(tái)的一面開設(shè)有一收納空間；以及

多個(gè)靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對(duì)應(yīng)設(shè)置在多個(gè)靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達(dá)連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。

2.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，該旋轉(zhuǎn)載臺(tái)上設(shè)置有自轉(zhuǎn)載臺(tái)，該自轉(zhuǎn)載臺(tái)用于放置待鍍?cè)?dāng)旋轉(zhuǎn)載臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，自轉(zhuǎn)載臺(tái)相對(duì)旋轉(zhuǎn)載臺(tái)自轉(zhuǎn)。

3.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)載臺(tái)的面積小于基臺(tái)的面積，所述靶座設(shè)置在基臺(tái)寬于旋轉(zhuǎn)載臺(tái)的表面位置。

4.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述收納空間相對(duì)的兩側(cè)壁上開設(shè)有軸孔，所述旋轉(zhuǎn)軸的端部以及所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)收容在該軸孔內(nèi)。

5.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述靶材部件包括靶材以及靶材基板，靶材固定在所述靶材基板上，當(dāng)靶材部件從收納空間中伸出時(shí)，靶材面向所述旋轉(zhuǎn)載臺(tái)。

6.如權(quán)利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)與一控制裝置連接，該控制裝置設(shè)置在鍍膜裝置外，該控制裝置用于供用戶在鍍膜開始時(shí)控制至少一個(gè)靶材從該收納空間內(nèi)伸出，以及在鍍膜結(jié)束后控制該靶材收容在該收納空間內(nèi)。

7.如權(quán)利要求6所述的靶材基座，其特征在于，所述控制裝置上設(shè)置有多個(gè)操作開關(guān)，每個(gè)操作開關(guān)對(duì)應(yīng)控制一個(gè)旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)方向以及開閉，用于供用戶分別操作該操作開關(guān)控制相應(yīng)靶材的狀態(tài)。

8.一種鍍膜裝置，其包括：

屏蔽罩，其內(nèi)形成有一真空腔體；以及

靶材基座，其設(shè)置在該真空腔體內(nèi)，其特征在于，該靶材基座包括：

基臺(tái)，固定在該真空腔體內(nèi)；

旋轉(zhuǎn)載臺(tái)，設(shè)置在基臺(tái)上且能夠相對(duì)該基臺(tái)旋轉(zhuǎn)；

多個(gè)靶座，環(huán)設(shè)在該旋轉(zhuǎn)載臺(tái)周圍，每個(gè)靶座面向該旋轉(zhuǎn)載臺(tái)的一面開設(shè)有一收納空間；以及

多個(gè)靶材部件，其分別通過一旋轉(zhuǎn)軸對(duì)應(yīng)設(shè)置在多個(gè)靶座上，所述旋轉(zhuǎn)軸與一旋轉(zhuǎn)馬達(dá)連接且均收容在收納空間內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)用于控制該旋轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)該靶材部件收容在收納空間內(nèi)或從收納空間中伸出。

9.如權(quán)利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述收納空間相對(duì)的兩側(cè)壁上開設(shè)有軸孔，所述旋轉(zhuǎn)軸兩端以及所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)收容在該軸孔內(nèi)。

10.如權(quán)利要求8所述的鍍膜裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)馬達(dá)與一控制裝置連接，該控制裝置設(shè)置在鍍膜裝置外，該控制裝置用于供用戶在鍍膜開始時(shí)控制至少一個(gè)靶材打開，以及在鍍膜結(jié)束后控制該靶材收容在該收納空間內(nèi)。