[發明專利]周期性結構的非破壞性分析

有效

• 申請號: 201010158813.5
• 申請日: 2010-04-23
• 公開（公告）號: CN101988896A
• 公開（公告）日: 2011-03-23
• 發明（設計）人: 金榮東;鄭珍謨;韓承鎬
• 申請（專利權）人: 慶熙大學校產協力團
• 主分類號: G01N21/47
• 分類號: G01N21/47;G01N21/59
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 康泉;宋志強

1.一種周期性結構的非破壞性分析，包括以下步驟：

(a)照射實際周期性結構，并測量與所述實際周期性結構響應于所述照射的反射率或透射率有關的至少一個物理性質；

(b)通過以下步驟計算與虛擬周期性結構響應于所述照射的反射率或透射率中至少之一有關的至少一個物理性質，

設置具有一維、二維或三維重復形狀以及至少水平重復周期的虛擬周期性結構，

將所述虛擬周期性結構劃分成垂直堆疊的N層，

根據所述虛擬周期性結構定義零級結構和擾動結構，所述擾動結構通過在擾動域中對所述零級周期性結構進行幾何或物理改變而獲得，

計算在光入射到所述零級結構上時的零級反射波或透射波，

針對所述虛擬周期性結構的至少一個劃分層，使用M次插值(2≤M≤N)對李普曼-薛定諤方程進行離散化，

根據離散化的李普曼-薛定諤方程計算擾動反射波或透射波，以及

根據所述零級反射波或透射波以及擾動反射波或透射波計算擾動反射率或透射率；以及

(c)將步驟(a)中測得的與反射率或透射率有關的至少一個物理性質與步驟(b)中計算出的與反射率或透射率中至少之一有關的至少一個相應物理性質進行比較。

2.根據權利要求1所述的方法，其中步驟(b)進一步包括以下步驟：

將所述虛擬周期性結構的N層分為X段(1≤X≤(N-1))，以及

針對所分的段使用Mi次插值(1≤Mi≤N)對所述李普曼-薛定諤方程進行離散化。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所分的段中至少之一與其它段具有不同的層數。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述反射率或透射率是主級(零級)以及其它可探測衍射級的反射率或透射率。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述虛擬周期性結構的表面具有層外物質，所述物質是氣態、液態或固態。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述虛擬周期性結構被允許具有至少一個表面層，并且所述表面層包括從氧化層、涂層或表面粗糙層構成的組中選擇的至少一層。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述物理性質與入射波的反射波或透射波的振幅或相位有關。

8.根據權利要求1所述的方法，其中步驟(b)進一步包括以下步驟：

將每個劃分層中的擾動勢展開成傅立葉級數，以及

根據層索引將擾動波的M次插值公式獨立地應用到各個劃分層中的反射波或透射波。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述虛擬周期性結構被劃分成具有至少兩個不同高度的N層。