[發(fā)明專利]生產(chǎn)黃銅礦型太陽(yáng)能電池的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010158264.1 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101853900A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-10-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 米澤諭;德永圭哉;菅野哲也 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 本田技研工業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳文平 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 生產(chǎn) 黃銅礦 太陽(yáng)能電池 方法 | ||
1.一種生產(chǎn)具有至少光吸收層(16)的黃銅礦型太陽(yáng)能電池(10)的方法,該光吸收層(16)含有黃銅礦型化合物,所述光吸收層(16)插置在第一電極層(14)和第二電極層(20)之間,電極層(14,20)在基底(12)的表面上側(cè)形成,所述方法包括以下步驟:
通過(guò)使用Cu-In-Ga合金靶(24)進(jìn)行濺射在第一電極層(14)上形成Cu-In-Ga合金層(26),和
使Cu-In-Ga合金層(26)經(jīng)受硒化處理,從而轉(zhuǎn)化Cu-In-Ga合金成為黃銅礦型化合物,以獲得光吸收層(16)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述Cu-In-Ga合金靶(24)具有滿足以下不等式(1)和(2)的Cu-In-Ga組成:
0.7≤Cu/(In+Ga)≤0.99????????...(1)
0.4≤Ga/(In+Ga)≤0.7?????????...(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述使用Cu-In-Ga合金靶(24)進(jìn)行濺射是DC濺射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在使Cu-In-Ga合金層(26)經(jīng)受硒化處理的步驟之前,在Cu-In-Ga合金層(26)上形成堿層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,所述堿層通過(guò)以下步驟形成:向Cu-In-Ga合金層(26)上涂敷含有堿金屬的水溶液,和之后干燥涂敷的溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所述堿層通過(guò)以下步驟形成:將具有Cu-In-Ga合金層(26)的部分加工的產(chǎn)品浸入含有堿金屬的水溶液中,和之后干燥涂敷的溶液。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的方法,其中,所述堿層包含Na。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于本田技研工業(yè)株式會(huì)社,未經(jīng)本田技研工業(yè)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010158264.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專利
- 專利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及產(chǎn)品生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)藥品的生產(chǎn)線和包括該生產(chǎn)線的生產(chǎn)車(chē)間
- 生產(chǎn)輔助系統(tǒng)、生產(chǎn)輔助方法以及生產(chǎn)輔助程序
- 生產(chǎn)系統(tǒng)、生產(chǎn)裝置和生產(chǎn)系統(tǒng)的控制方法
- 石料生產(chǎn)機(jī)制砂生產(chǎn)系統(tǒng)
- 生產(chǎn)系統(tǒng)以及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





