[發明專利]用于規整填料的填料層

無效

• 申請號: 201010157344.5
• 申請日: 2010-03-17
• 公開（公告）號: CN101837277A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: I·奧斯納;M·杜斯
• 申請（專利權）人: 蘇舍化學技術有限公司
• 主分類號: B01J19/32
• 分類號: B01J19/32
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 嚴志軍;劉華聯

1.一種至少包括具有第一波紋的第一填料層(10)的規整填料(1)，其中，所述第一波紋形成了多個敞開的通道(12，14，16)，其中所述通道包括第一波谷(22)、第一波峰(32)和第二波峰(42)，其中所述第一波峰(32)和所述第二波峰(42)界定了所述第一波谷(22)，其中所述第一波峰和所述第二波峰具有第一頂端(33)和第二頂端(43)，其特征在于，在所述第一波峰(32)的第一頂端(33)上形成了在所述第一頂端(33)的方向上延伸的隔離元件(34)，并且所述第一波谷(22)具有谷底(23)，所述隔離元件(34)具有邊緣(35)，與所述第一波峰(32)的第一頂端(33)相比，該邊緣離所述波谷(22)的谷底(23)具有更大的垂直間距，由此所述規整填料包括第二填料層(100)，該第二填料層(100)具有第二波紋，由此所述第一填料層(10)的第一波紋設置成使得與所述第二填料層(10)的第二波紋產生交叉布置。

2.根據權利要求1所述的規整填料(1)，其特征在于，在所述第二頂端(43)上布置了第二隔離元件(44)。

3.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，在所述第一谷底(23)上布置了第三隔離元件(24)。

4.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，包括第一邊界(50，51)以及第二邊界(60，61)，其中所述第一邊界(50，51)布置成基本上平行于所述第二邊界(60，61)。

5.根據權利要求4所述的規整填料(1)，其特征在于，所述隔離元件(44)布置在所述第一邊界(50，51)的附近，并且/或者所述隔離元件(24)布置在所述第二邊界(60，61)的附近。

6.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，所述波紋高度(28)是基本恒定的。

7.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，所述頂端的至少一部分被制成為邊緣。

8.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，所述波谷中的至少一些被制成為V形。

9.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，所述第一填料層(10)和所述第二填料層(100)布置成使得所述第一填料層(10)的通道與所述第二填料層(100)的通道相交，其特征是，所述第一填料層(10)通過所述隔離元件(24，44)與所述第二填料層(100)相接接觸。

10.根據權利要求9所述的規整填料(1)，其特征在于，所述隔離元件布置在所述第一填料層和第二填料層(10，100)其中各個上。

11.根據權利要求10所述的規整填料(1)，其特征在于，所述第一填料層(10)的隔離元件與所述第二填料層(100)的隔離元件相接接觸。

12.根據前述權利要求9至11中的任一項所述的規整填料(1)，其特征在于，在所述第一填料層和第二填料層(10，100)豎直地對準的情況下，所述隔離元件彼此上下地布置。

13.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述隔離元件設置成彼此相鄰或在所述第一填料層和第二填料層(10，100)豎直地對準的情況下彼此相鄰。

14.一種質量傳遞裝置，特別是塔，包括根據前述權利要求9至13中的任一項所述的規整填料(1)。

15.根據前述權利要求中任一項所述的規整填料(1)的用于利用含水吸收劑進行吸收的用途。