[發(fā)明專利]制造殼體框架中拉絲的方法以及加工殼體框架的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010156480.2
• 申請日: 2010-04-07
• 公開（公告）號: CN101856802A
• 公開（公告）日: 2010-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宣提盛
• 申請（專利權(quán)）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: B24B29/00
• 分類號: B24B29/00
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;王青芝

1.一種制造裝置殼體框架中的拉絲的方法，所述方法包括以下步驟：

形成具有不規(guī)則部分的模具(210)，所述不規(guī)則部分形成第一拉絲(231)；

拋光所述不規(guī)則部分；

利用涂料(240)涂覆所述第一拉絲；

在所述第一拉絲(231)的所述涂料(240)中形成第二拉絲(241)。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，所述方法還包括刻劃規(guī)則的和不規(guī)則的第二拉絲(241)中的一種來表現(xiàn)第三拉絲(244)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述模具包括：

型腔模具(210)和芯模具(220)，所述型腔模具(210)具有用來表現(xiàn)將被擠壓的裝置殼體框架中的所述第一拉絲(231)的不規(guī)則部分，所述芯模具(220)用于在與所述型腔模具結(jié)合時(shí)確定所述裝置殼體框架的體積。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，形成具有所述第一拉絲(231)的所述裝置殼體框架使用鑄造、壓鑄、印模、擠壓、軋制、鍛造、板材加工、成形軋制和注塑成型中的一種方法。

5.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述型腔模具的所述不規(guī)則部分具有20-50μm的深度。

6.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，在所述第一拉絲上將所述涂料涂覆成小于10μm的均勻厚度。

7.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，刻劃所述第二拉絲(241)來表現(xiàn)所述第三拉絲(244)的步驟將所述第二拉絲切成5-15μm的深度。

8.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，刻劃所述第二拉絲(241)來表現(xiàn)所述第三拉絲(244)的步驟使用的是在圓形表面上具有微細(xì)突起的刮輥和包含金屬粉末的刷子中的一種。

9.一種加工限定終端外表面的殼體框架的方法，所述方法包括以下步驟：

形成具有通過相關(guān)模具(210)表現(xiàn)的主拉絲(231)的殼體框架；

用預(yù)定的涂料(240)涂覆殼體框架的主拉絲來形成涂覆表面；

通過刻劃所述涂覆表面來形成二次拉絲(241)，其中，在規(guī)則和不規(guī)則的線深度之一處執(zhí)行所述刻劃。

10.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述相關(guān)模具包括：

型腔模具(210)，具有用來表現(xiàn)將被擠壓的終端中的主要拉絲(231)的不規(guī)則部分；

芯模具(220)，與所述型腔模具結(jié)合時(shí)確定所述終端的體積。

11.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，形成主要拉絲的步驟使用鑄造、壓鑄、印模、擠壓、軋制、鍛造、板材加工、成形軋制和注塑成型中的一種方法。

12.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述主要拉絲包括20-50μm深度的不規(guī)則部分。

13.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，在所述主要拉絲上將所述涂料涂覆相對于一定區(qū)域厚度均勻且小于10μm。

14.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述二次拉絲(241)的所述不規(guī)則部分包括深度為5-15μm的不規(guī)則部分。

15.如權(quán)利要求9所述的方法，其中，形成二次拉絲(241)的步驟包括在圓形表面上具有微細(xì)突起的刮輥和包含金屬粉末的刷子的一種。