[發(fā)明專利]一種高溫真空烘烤爐及其操作方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010156395.6 | 申請日: | 2010-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN102206809A | 公開(公告)日: | 2011-10-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 施建江;劉祥林;張曉沛;楊少延 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州海鯨光電科技有限公司;施建江 |
| 主分類號: | C23C16/18 | 分類號: | C23C16/18;C23C16/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陶鳳波;屈玉華 |
| 地址: | 311200 浙江省杭州市蕭山*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高溫 真空 烤爐 及其 操作方法 | ||
1.一種高溫真空烘烤爐,其特征在于:由內(nèi)腔室和圍繞內(nèi)腔室的外腔室構(gòu)成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述內(nèi)腔室包括內(nèi)筒、加熱棒、載物臺和熱電偶,所述外腔室包括外筒、換熱器、進(jìn)出氣口、氣缸和真空計。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述內(nèi)筒包括內(nèi)筒前蓋、內(nèi)筒后蓋和內(nèi)筒主體,內(nèi)筒主體和內(nèi)筒前蓋均包括由鐵、鉬、石墨制成的外壁和由石墨粘保溫層材料制成的內(nèi)壁,內(nèi)筒后蓋由透氣的網(wǎng)狀石墨粘保溫材料制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述內(nèi)筒中的加熱棒為石墨電阻加熱棒,其通過絕緣陶瓷件平行均勻排列固定在內(nèi)筒內(nèi)壁四周;所述石墨電阻加熱棒分3組,每組中的石墨電阻加熱棒相互串聯(lián)在一起,組與組之間并聯(lián),并通過4個加熱棒引出電極與爐體外的三相交流電源連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述外筒由具有中空夾層的不銹鋼材料構(gòu)成,并包括外筒前蓋和外筒后蓋,中空夾層可以通冷卻循環(huán)水。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述換熱器包括由鐵、鉬或石墨材料制作的耐高溫風(fēng)機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述耐高溫風(fēng)機(jī)是采用磁流體軸承帶動旋轉(zhuǎn)工作的,以保證風(fēng)機(jī)在旋轉(zhuǎn)工作過程中外腔室內(nèi)仍保持良好的真空密封。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:所述氣缸位于外筒前蓋上,所述氣缸的傳動桿由鐵、鉬或石墨制成,并且采用波紋管與外筒前蓋之間真空密封,以保證傳動桿帶動內(nèi)筒前蓋運動過程中內(nèi)外腔室仍保持良好真空密封,升溫和烘烤過程波紋管拉伸傳動桿前進(jìn)關(guān)閉內(nèi)筒前蓋,降溫過程波紋管收縮傳動桿后退開啟內(nèi)筒前蓋。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:該高溫真空烘烤爐最高加熱溫度為1600℃,穩(wěn)定工作溫度1200-1600℃,可用于石墨襯底托盤、碳化硅襯底托盤的高溫真空烘烤清洗。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫真空烘烤爐,其特征在于:用羅茨泵或分子泵真空泵機(jī)組進(jìn)行內(nèi)腔室和外腔室的高真空抽取。
11.一種高溫真空烘烤爐的操作方法,包括:
打開外筒前蓋和內(nèi)筒前蓋,將待烘烤的物體放置于內(nèi)筒中的載物臺上,然后關(guān)閉外筒前蓋;
對內(nèi)筒所圍繞的內(nèi)腔室和內(nèi)筒與外筒之間的外腔室抽取真空;
通過外筒前蓋上的氣缸的傳動桿關(guān)閉內(nèi)筒前蓋;
向所述內(nèi)筒中設(shè)置的加熱棒通電,以開始加熱;
停止向加熱棒通電,并通過外筒前蓋上的氣缸的傳動桿開啟內(nèi)筒前蓋;
通過外筒上的進(jìn)氣口通入冷卻氣體;
關(guān)閉冷卻氣體,開啟外筒前蓋和內(nèi)筒前蓋,取出烘烤完畢的物體。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





