[發(fā)明專利]一種表面處理方法以及使用該方法的經(jīng)表面處理的物品

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201010156223.9
• 申請(qǐng)日: 2010-03-30
• 公開（公告）號(hào): CN102206810A
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐文光;郭信甫;唐炯文;鄭博文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 徐文光
• 主分類號(hào): C23C16/30
• 分類號(hào): C23C16/30;C23C16/44
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 周長(zhǎng)興

1.一種表面處理方法，包括：

提供一基底；以及

使用原子層沉積法形成一陶瓷層于該基底的表面，其中，該陶瓷層的厚度為1nm至1000nm。

2.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該基底為不規(guī)則形狀的基底。

3.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該陶瓷層的材料選自由：Al₂O₃、ZnO、TiO₂、ZrO₂、AlN、GaN、BN、TiN、SiC、Si₃N₄及其混合物所組成的群組。

4.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該陶瓷層的厚度為1nm至400nm。

5.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該表面處理方法用于改變?cè)摶妆砻娴念伾?/p>

6.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該使用原子層沉積法形成該陶瓷層的步驟重復(fù)1至10000次。

7.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該表面形成有陶瓷層的基底的表面顏色隨著該陶瓷層厚度的不同而改變。

8.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該表面處理方法用于防止該基底的氧化。

9.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該基底為一金屬基底、玻璃基底、石英基底或高分子基底。

10.如權(quán)利要求1所述的表面處理方法，其中，該原子層沉積法所使用的反應(yīng)溫度為50至650℃。

11.一種經(jīng)表面處理的物品，其包括一物品，該物品的表面經(jīng)由原子層沉積法于表面形成有一陶瓷層，其中該陶瓷層的厚度為1nm至1000nm。

12.如權(quán)利要求11所述的經(jīng)表面處理的物品，其中，該陶瓷層的厚度為1nm至400nm。

13.如權(quán)利要求11所述的經(jīng)表面處理的物品，其中，該陶瓷層的材料選自由：Al₂O₃、ZnO、TiO₂、ZrO₂、AlN、GaN、BN、TiN、SiC、Si₃N₄及其混合物所組成的群組。

14.如權(quán)利要求11所述的經(jīng)表面處理的物品，其中，該經(jīng)表面處理的物品的表面顏色不同于未經(jīng)表面處理的物品。

15.如權(quán)利要求11所述的經(jīng)表面處理的物品，其中，該經(jīng)表面處理的物品的表面顏色隨著該陶瓷層厚度的不同而改變。