[發明專利]擴散器重力支撐件

有效

• 申請號: 201010155656.2
• 申請日: 2005-09-19
• 公開（公告）號: CN101921997A
• 公開（公告）日: 2010-12-22
• 發明（設計）人: 恩斯特·凱勒;約翰·M·懷特;羅賓·L·蒂納;伊里·庫塞拉;崔壽永;樸范株;邁克爾·斯塔爾
• 申請（專利權）人: 應用材料股份有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H05H1/24
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陸嘉

本發明是提交于2005年9月19日，申請號為200510106396.9，題為“擴散器重力支撐件”的專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及供應氣體至一等離子腔，特別是涉及將在等離子腔內支撐一氣體分布板。

背景技術

平板顯示器使用電子裝置，如絕緣體、導體的有源矩陣和薄膜晶體管(TFT)，來生產用于各種如電視監視器，個人數字助理(PDA)、移動電話，及計算機屏幕等裝置上的平面屏幕。一般，這些平板顯示器是用兩片薄的玻璃板，一聚合物材料，或其它適合的基板材料所制成的。液晶材料層或一金屬接點的矩陣，一半導體有源層，及一電介質層通過一系列連續的步驟被沉積沉積且被夾在兩片薄板之間，這兩片薄板連接在一起用以形成一大面積基板，其具有至少一平板顯示器位于其上。至少一平板顯示器將包括一連接至一電源供應器的導電膜其，該電源供應器將會改變液晶物質的方向且產生一圖案顯示于該屏幕表面上。

這些制程通常需要大面積基板經過若干個連續的制程步驟來將有源矩陣材料沉積到該基板上。化學氣相沉積(CVD)及等離子增強化學氣相沉積(PECVD)是用于此沉積的一些已知方法。這些已知的制程需要該大面積基板在沉積期間接受高達300℃至400℃或更高的溫度，并相對于一氣體分布板或擴散器被保持在一固定的位置，用以確保被沉積層的均勻性。該擴散器一般限定一面積，其等于或大于該基板的面積。如果擴散器在沉積期間被扭曲的話，則該制程就無法產生均勻的沉積，而這將會產生一無法使用的平板顯示器。

平板顯示器在最近幾年來由于此項技術的市場接受度提高的關系而在尺寸上大幅地增加。早先世代的大面積基板的尺寸約為500毫米乘650毫米，現已增加至約1800毫米乘約2200毫米或更大的尺寸。這種尺寸上的增大已促使擴散器在尺寸上也隨之增大，以能夠完全地處理基板。較大的擴散器尺寸面臨需要設計一可在沉積期間曝露于高溫下時抵抗下垂的擴散器的挑戰。

擴散器典型地為一板子，其以間隔開來的方式被支撐在該大面積基板的上方且具有若干個用來將分散制程氣體的開孔，并典型地具有與待處理的基板相同的面積。擴散器一般都是用鋁制成且在經受該CVD或PECVD制程時會膨脹和收縮且通常是在邊緣附近被支撐用以控制介于該擴散器與該基板之間的間距。然而，此邊緣支撐設計并沒有對中央部分提供任何的支撐，這將會隨著時間變長而在重力的作用下產生下垂，且在CVD或PECVD制程期間的高制程溫度下更加嚴重。

發明內容

本發明涉及用來支撐一氣體分布板或擴散器于一等離子腔內的方法及設備。在一實施例中，該擴散器被一位于內部或設置在中央的支撐件所支撐，該支撐件連接至氣體分布板及該腔的一壁上。本發明可使該擴散器在承受等離子增強化學氣相沉積期間的高溫的同時，有利地避免因為作用于其上的重力、熱或壓力所誘發的力量所產生的扭曲。該至少一支撐件連接在該擴散器與該腔內的背板之間，而且能夠調整該擴散器的平面方位。該至少一支撐件構成為在該腔抽真空之前或之后，調整該擴散器的輪廓。在另一實施例中，該至少一支撐件通過調整若干根連接至該至少一支撐件的螺絲來調整該擴散器的輪廓。該重力支撐件可被裝到該擴散器上，而且不會影響到氣體流過該擴散器。

在一實施例中，該至少一支撐件為一重力支撐件。該重力支撐件包括一氣體入口，并提供從該氣體入口到該擴散板上的若干個孔口的氣體流，同時提供該擴散器垂直的支撐。該重力支撐件還能夠通過一匹配機構與該擴散器脫離。在另一實施例中，該孔口環構成為連接至該重力支撐件，并為該擴散器提供一氣體流調整能力。

在另一實施例中，一氣體分布板被一位于一腔內的第一板支撐在該腔內，該第一板具有一中央區其上形成有至少一穿孔。在該第一板下面的是一第二板，如一氣體分布板，其具有至少一匹配部分與該第一板上的至少一穿孔對齊。采用至少一有螺紋的支撐件與該至少一匹配部分相接合，通過在該氣體分布板的一中央部分支撐該氣體分布板。該至少一有螺紋部分連接在該擴散器與該背板之間。該背板在剖面上比該擴散器厚，所以提供一靜止的支撐。因為相對厚度及在擴散板上有穿孔的關系，該擴散器相對于該背板而言更有可撓曲性，這使該擴散器的輪廓可通過調整該至少一有螺紋的支撐件來加以調整。